[发明专利]用于计量学中的经改进自叠纹光栅设计

说明书

本发明公开一种使用于计量学中的光栅，其包含周期性结构，所述周期性结构包含具有间距P的多个单元，所述多个单元中的至少一个单元包含：至少第一周期性子结构，其具有小于所述间距P的第一子间距P1；及至少第二周期性子结构，其与所述至少一个单元内的所述第一周期性子结构并排且分开布置且具有小于所述间距P且与所述第一子间距P1不同的第二子间距P2，P1及P2经选择以产生至少一个叠纹间距P_m＝P1·P2/(P2–P1)，所述间距P为所述第一子间距P1及所述第二子间距P2的整数倍数。

相关申请案的交叉引用

借此参考2019年3月25日申请的且标题为“用于OVL测量的自叠纹目标设计的新方法(NEW APPROACH FOR SELF-MOIRéTARGET DESIGN FOR OVL MEASUREMENT)”的第62/823,342号美国临时专利申请案，所述专利申请案的公开内容借此以引用的方式并入且借此要求所述案的优先权。

还参考与本发明的标的物相关的以下专利，所述专利的公开内容借此以引用的方式并入：

分别在2016年5月19日及2017年12月1日申请的两者标题皆为“用于测量未分辨的类似装置的间距的自叠纹目标设计原理(SELF-MOIRE TARGET DESIGN PRINCIPLES FORMEASURING UNRESOLVED DEVICE-LIKE PITCHES)”的第9,864,209号及第10,101,592号美国专利，所述专利转让给与本发明相同的受让人。

技术领域

本发明大体上涉及计量学，且更特定来说，涉及用于计量学中的光栅。

背景技术

在此项技术中已知用于计量学中的各种类型的光栅。

发明内容

本发明试图提供用于用于提供高度准确测量的计量学目标中的新颖、可容易打印的光栅。

因此，根据本发明的优选实施例，提供一种用于计量学中的光栅，其包含周期性结构，所述周期性结构包含具有间距P的多个单元，所述多个单元中的至少一个单元包含：至少第一周期性子结构，其具有小于所述间距P的第一子间距P1；及至少第二周期性子结构，其与所述至少一个单元内的所述第一周期性子结构并排且分开布置且具有小于所述间距P且与所述第一子间距P1不同的第二子间距P2，P1及P2经选择以产生至少一个叠纹间距P_m＝P1·P2/(P2–P1)，所述间距P为所述第一子间距P1及所述第二子间距P2的整数倍数。

优选地，P1及P2为类似半导体装置的间距。

根据本发明的优选实施例，P/P_m大体上等于1。

替代地，P/P_m大体上等于2。

优选地，P≥200nm。另外优选地，P1及P2200nm。

优选地，所述第一及第二周期性子结构沿着共同轴线定位，P1及P2沿着所述共同轴线界定。

优选地，还提供一种用于测量半导体装置的层之间的偏移的计量学目标，所述目标包含至少两个光栅，所述至少两个光栅中的至少一者包含本发明的优选实施例的光栅，所述至少两个光栅以相互分层配置布置。

优选地，所述至少两个光栅具有相同叠纹间距。

替代地，所述至少两个光栅具有相互不同的叠纹间距。