[发明专利]用于计量学中的经改进自叠纹光栅设计在审
| 申请号： | 202080020182.2 | 申请日： | 2020-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN113557466A | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | V·莱温斯基;F·约埃尔 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/60 | 分类号： | G02B27/60;G01B11/02;G01B11/25;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 计量学 中的 改进 光栅 设计 | ||
1.一种用于计量学中的光栅，其包括：
周期性结构，其包括具有间距P的多个单元，所述多个单元中的至少一个单元包括：
至少第一周期性子结构，其具有小于所述间距P的第一子间距P1，及
至少第二周期性子结构，其与所述至少一个单元内的所述第一周期性子结构并排且分开布置且具有小于所述间距P且与所述第一子间距P1不同的第二子间距P2，P1及P2经选择以产生至少一个叠纹间距Pm＝P1·P2/(P2–P1)，所述间距P为所述第一子间距P1及所述第二子间距P2的整数倍数。
2.根据权利要求1所述的光栅，其中P1及P2为类似半导体装置的间距。
3.根据权利要求2所述的光栅，其中P/Pm大体上等于1。
4.根据权利要求2所述的光栅，其中P/Pm大体上等于2。
5.根据权利要求1所述的光栅，其中P≥200nm。
6.根据权利要求5所述的光栅，其中P1及P2200nm。
7.根据权利要求1所述的光栅，其中所述第一周期性子结构及所述第二周期性子结构沿着共同轴线定位，P1及P2沿着所述共同轴线界定。
8.一种用于测量半导体装置的层之间的偏移的计量学目标，所述目标包括至少两个光栅，所述至少两个光栅中的至少一者包括根据权利要求1所述的光栅，所述至少两个光栅以相互分层配置布置。
9.根据权利要求8所述的计量学目标，其中所述至少两个光栅具有相同叠纹间距。
10.根据权利要求8所述的计量学目标，其中所述至少两个光栅具有相互不同的叠纹间距。
11.一种用于形成用于计量学中的光栅的方法，其包括：
提供包括具有间距P的多个单元的周期性结构，所述多个单元中的至少一个单元包括：
至少第一周期性子结构，其具有小于所述间距P的第一子间距P1，及
至少第二周期性子结构，其与所述至少一个单元内的所述第一周期性子结构并排且分开布置且具有小于所述间距P且与所述第一子间距P1不同的第二子间距P2，P1及P2经选择以产生至少一个叠纹间距Pm＝P1·P2/(P2–P1)，所述间距P为所述第一子间距P1及所述第二子间距P2的整数倍数。
12.根据权利要求11所述的方法，其中P1及P2为类似半导体装置的间距。
13.根据权利要求12所述的方法，其中P/Pm大体上等于1。
14.根据权利要求12所述的方法，其中P/Pm大体上等于2。
15.根据权利要求11所述的方法，其中P≥200nm。
16.根据权利要求15所述的方法，其中P1及P2200nm。
17.根据权利要求11所述的方法，且其还包括布置所述第一周期性子结构及所述第二周期性子结构以沿着共同轴线定位，P1及P2沿着所述共同轴线界定。
18.根据权利要求11所述的方法，且其还包括以相互分层配置布置至少两个光栅以便形成用于测量半导体装置的层之间的偏移的计量学目标，所述至少两个光栅中的至少一者包括根据权利要求11所述的光栅。
19.根据权利要求18所述的方法，其中所述至少两个光栅具有相同叠纹间距。
20.根据权利要求18所述的方法，其中所述至少两个光栅具有相互不同的叠纹间距。
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