[发明专利]用于含硅膜的组合物及其使用方法

权利要求书

1.一种包含由以下式I表示的硅氮烷前体的组合物：

其中R¹选自直链或支链C₁至C₁₀烷基、直链或支链C₃至C₁₀烯基、直链或支链C₃至C₁₀炔基、C₃至C₁₀环烷基、C₂至C₆二烷基氨基、吸电子基团和C₆至C₁₀芳基；R²选自氢、直链或支链C₁至C₁₀烷基、直链或支链C₃至C₆烯基、直链或支链C₂至C₆炔基、C₃至C₁₀环烷基、C₂至C₆二烷基氨基、C₆至C₁₀芳基、直链或支链C₁至C₆氟化烷基、吸电子基团、C₄至C₁₀芳基和选自Cl、Br和I的卤素；和X是选自Cl、Br和I的卤素，且

其中所述组合物不含有机胺、卤素离子、金属离子。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述硅氮烷前体选自1,1,1,3,3,3-六氯-2-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-乙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-异丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-正丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-正丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六氯-2-异丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六溴-2-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-乙基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-异丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-甲基-3-甲基-二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-乙基-3-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-正丙基-3-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3-五氯-2-异丙基-3-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-乙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-正丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-仲丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-异丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-溴-2-叔丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-六碘-2-甲基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-碘-2-乙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-碘-2-正丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-碘-2-正丁基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-碘-2-异丙基二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-碘-2-仲丁基-二硅氮烷、1,1,1,3,3,3-碘-2-叔丁基-二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-甲基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-四氯-2-乙基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-正丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-异丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-正丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-异丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-仲丁基二硅氮烷和1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-叔丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-甲基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-乙基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-正丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-异丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-正丁基二硅氮烷、1,3,3-四氯-2-异丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-仲丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-叔丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-2-甲基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-2-乙基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-正丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-2-异丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-2-正丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-2-异丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四溴-2-仲丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-叔丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-甲基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-乙基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-正丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-异丙基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-正丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-异丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-仲丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四碘-2-叔丁基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-环戊基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-2-环己基二硅氮烷、1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-环戊基二硅氮烷和1,1,3,3-四氯-1,3-二甲基-2-环己基二硅氮烷。