[发明专利]烧结体在审
| 申请号： | 202080017562.0 | 申请日： | 2020-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN113518767A | 公开（公告）日： | 2021-10-19 |
| 发明（设计）人： | 山口靖英;深川直树 | 申请（专利权）人： | 日本钇股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/50 | 分类号： | C04B35/50;C04B35/553;C04B35/64;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 烧结 | ||
【权利要求书】：
1.一种烧结体，其是具有至少含有稀土类元素和氟的化合物的相的烧结体，在L*a*b*色度表示中，L*值为70以上。
2.根据权利要求1所述的烧结体，其中，晶粒的平均粒径为10μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的烧结体，其中，相对密度为95％以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的烧结体，其中，三点弯曲强度为100MPa以上。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的烧结体，其中，不含氧，或者在包含氧的情况下氧含量为13质量％以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的烧结体，其中，以所述化合物的相作为主相。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的烧结体，其中，所述化合物为稀土类元素的氟化物或氟氧化物。
8.根据权利要求6所述的烧结体，其中，以稀土类元素的氟氧化物的相作为主相。
9.根据权利要求1～7中任一项所述的烧结体，其在含有卤素的干式蚀刻用气体气氛中使用。
10.一种稀土类元素的氟化物或氟氧化物的制造方法，其中，将包含含有Ln及F的化合物的原料粉末在低于1200℃的温度下进行SPS烧结。
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