[发明专利]制造多层薄膜的工艺、制造太阳能电池的方法、和制造太阳能电池组件的方法在审
申请号: | 202080015675.7 | 申请日: | 2020-08-25 |
公开(公告)号: | CN113728445A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 保西祐弥;芝崎聪一郎;中川直之;山崎六月;平冈佳子;山本和重 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝能源系统株式会社 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 吴倩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 多层 薄膜 工艺 太阳能电池 方法 组件 | ||
1.一种制造多层薄膜的工艺,其包括:
在第一透明电极上形成包含Cu2O作为主要成分的光电转换层;和
将具有形成在所述第一透明电极上的所述光电转换层的构件在氧浓度为5.0×10-8[g/L]至5.0×10-5[g/L]的第一气氛下放置1h至1600h。
2.根据权利要求1所述的制造多层薄膜的工艺,其中,在所述第一气氛下放置期间,所述第一气氛中的水蒸气浓度为5.0×10-8[g/L]至5.0×10-5[g/L]。
3.根据权利要求1或2所述的制造多层薄膜的工艺,其进一步包括下述工序:在放置到所述第一气氛下之前,将具有形成在所述第一透明电极上的所述光电转换层的构件在0℃至50℃的第二空气气氛下放置1h或更短的时间。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制造多层薄膜的工艺,其中,在所述第一气氛下放置期间,所述第一气氛的温度为0℃至100℃。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的制造多层薄膜的工艺,其中,在所述第一气氛下放置期间,所述第一气氛中的保持时间为72h至1600h。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制造多层薄膜的工艺,其中,在所述第一气氛下放置期间,低氧气氛中的氧浓度为5.0×10-8[g/L]至3.5×10-5[g/L],且
在所述第一气氛下放置期间,所述低氧气氛中的水蒸气浓度为5.0×10-8[g/L]至4.0×10-5[g/L]。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制造多层薄膜的工艺,其中,在所述第一气氛下放置期间,当所述第一气氛中的保持时间被定义为t[h],所述第一气氛中的所述氧浓度被定义为CO[g/L],且所述第一气氛中的水蒸气浓度被定义为CW[g/L]时,
满足1.0×10-7[h·g/L]≤t×CO[h·g/L]≤1.6×10-3[h·g/L],且
满足1.0×10-7[h·g/L]≤t×CW[h·g/L]≤6.5×10-2[h·g/L]。
8.一种制造太阳能电池的方法,其包括用权利要求1至7中任一项所述的制造多层薄膜的工艺来制造多层薄膜。
9.一种制造多结太阳能电池的方法,其包括用权利要求1至7中任一项所述的制造多层薄膜的工艺来制造多层薄膜。
10.一种制造太阳能电池组件的方法,其包括用权利要求1至7中任一项所述的制造多层薄膜的工艺来制造多层薄膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的