[发明专利]光学层积体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202080014310.2 申请日: 2020-02-07
公开(公告)号: CN113474691B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 酒井丈也 申请(专利权)人: 林特琅普股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B32B7/023;B32B27/00;B32B27/30
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 褚瑶杨;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 层积 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学层积体,其是由双折射诱发材料构成的第一光学各向异性层、和由聚合性液晶材料构成的第二光学各向异性层相邻层积的光学层积体,

第一光学各向异性层由慢轴彼此不同的表面层和内部层构成,所述表面层和第二光学各向异性层相接,

第一光学各向异性层的内部层的慢轴方向和第二光学各向异性层的慢轴方向交叉,

所述双折射诱发材料包含具有侧链结构的液晶性高分子,该侧链结构具有感光性基团、且能够形成液晶结构。

2.如权利要求1所述的光学层积体,其中,第一光学各向异性层的内部层的慢轴方向和第二光学各向异性层的慢轴方向以非平行且非正交的角度交叉。

3.如权利要求1或2所述的光学层积体,其中,聚合性液晶材料包含交联剂,该交联剂具有能够与双折射诱发材料形成交联键的官能团。

4.一种光学层积体的制造方法,其是制造权利要求1~3中任一项所述的光学层积体的方法,其具备:

第一光照射工序,向由双折射诱发材料构成的双折射诱发材料层上照射用于显现相位差的第一偏振光,形成第一光学各向异性层;

表面取向工序,对所述第一光学各向异性层的表面进行取向处理以施加与其内部层不同的取向,在第一光学各向异性层形成表面层;和

第二光学各向异性层形成工序,在经取向处理的所述第一光学各向异性层的表面上应用聚合性液晶材料,形成第二光学各向异性层。

5.如权利要求4所述的光学层积体的制造方法,其中,所述表面取向工序是第二光照射工序,在该第二光照射工序中,对所述第一光学各向异性层的表面照射具有与所述第一偏振光不同的偏振光轴方向的第二偏振光,在第一光学各向异性层形成表面层。

6.如权利要求5所述的光学层积体的制造方法,其中,在所述第一光照射工序和所述第二光照射工序之间,还具备用溶剂处理所述第一光学各向异性层的表面的表面处理工序。

7.一种圆偏振片,其是权利要求1~3中任一项所述的光学层积体、和线偏振片层积的圆偏振片。

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