[发明专利]具有后腔容积通风孔的麦克风组件在审

专利信息
申请号: 202080011601.6 申请日: 2020-01-31
公开(公告)号: CN113383557A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: M·佩德森;P·V·洛佩特 申请(专利权)人: 美商楼氏电子有限公司
主分类号: H04R1/08 分类号: H04R1/08;H04R19/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 师玮;王小东
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 容积 通风孔 麦克风 组件
【说明书】:

通过将压力均衡孔从靠近声端口的位置移动至麦克风组件的盖上的位置,缓解了污染物通过压力均衡孔进入麦克风组件的问题。这是通过使用单独的专用管芯制造孔减小结构然后将该孔减小结构联接至麦克风的盖来实现的,其中直径约25微米或更小的孔被设置在该孔减小结构上。在联接孔减小结构后,盖上的相对较小的孔用于麦克风的后腔容积与麦克风组件外部的压力的压力均衡。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年2月1日提交的美国临时专利申请No.62/800,240的权益和优先权,该美国临时专利申请的全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开总体上涉及提供进入麦克风组件的后腔容积的孔或通风孔的系统和方法。

背景技术

期望麦克风组件能够防止污染物进入。污染物可以包括能够在麦克风组件中凝聚的颗粒、液体或蒸汽。这些污染物可能会导致设备的性能变化或暂时甚至永久性故障。污染物可能在初始制造期间、在将麦克风附接至诸如手机的电子设备的PCB期间或在使用期间进入麦克风组件。

发明内容

在一些实施方式中,麦克风组件包括基板,端口形成在该基板中。所述麦克风组件包括声换能器,所述声换能器联接至所述基板,被设置在所述端口上方,并且将所述麦克风的前腔容积与后腔容积分开,所述前腔容积与所述端口流体连通。所述麦克风组件还包括盖,所述盖包括第一孔。所述麦克风组件还包括孔减小结构,所述孔减小结构包括第二孔并且以与所述第一孔交叠的方式联接至所述盖,其中,所述第二孔比所述第一孔小。

在一些实施方式中,麦克风组件包括基板,端口形成在该基板中。所述麦克风组件包括声换能器,所述声换能器联接至所述基板,所述声换能器是无穿孔的,被设置在所述端口上方,并且将所述麦克风的前腔容积与后腔容积分开,所述前腔容积与所述端口流体连通。所述麦克风组件还包括盖,所述盖包括第一孔。所述麦克风组件还包括孔减小结构,所述孔减小结构包括第二孔并且以与所述第一孔交叠的方式联接至所述盖,其中,所述第二孔比所述第一孔小,并且所述第二孔提供使所述麦克风组件的所述后腔容积的压力与所述麦克风组件外部的压力之间的压力均衡的唯一路径。

在一些实施方式中,一种形成麦克风组件的方法包括:提供基板,所述基板中形成有端口。所述方法包括:将声换能器联接至所述基板的第一表面,所述声换能器被设置在所述端口上方。所述方法还包括:将盖联接至所述基板的所述第一表面,所述盖包括第一孔;所述麦克风组件包括在所述声换能器与所述盖之间的后腔容积。所述方法包括:在将所述盖联接至所述基板的所述第一表面期间,通过所述第一孔从所述后腔容积去除污染物。所述方法还包括:在去除所述污染物之后,在与所述第一孔交叠的位置处将孔减小结构联接至所述盖,所述孔减小结构包括比所述第一孔小的第二孔。

前述概述仅是例示性的,并不旨在以任何方式进行限制。除了上述例示性方面、实施方式和特征之外,通过参考以下附图和具体实施方式,另外的方面、实施方式和特征将变得显而易见。

附图说明

结合附图,根据以下描述和所附权利要求,本公开的前述特征和其它特征将变得更加完全显而易见。这些附图仅描绘了根据本公开的多个实施方式,因此不应视为对本公开的范围的限制。下面结合附图更详细地描述各种实施方式。

图1描绘了孔减小结构联接至麦克风的盖以提供用于压力均衡的后腔容积通风的实施方式。

图2例示了孔减小结构的上表面与麦克风盖的上表面共面的实施方式。

图3是孔减小结构的联接发生在盖的平坦区域上的实施方式。

图4例示了孔减小结构仅包括平坦的孔减小层的实施方式。

图5A至图5D描绘了制造孔减小结构的方法。

图6A至图6B描绘了制造孔减小结构的另选方法。

图7例示了制造孔减小结构的方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美商楼氏电子有限公司,未经美商楼氏电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080011601.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top