[发明专利]亲水滑水化处理剂和表面处理方法

说明书

提供能够通过低温下的干燥形成具有亲水性也具有水滴除去性的被膜的亲水滑水化处理剂、使用了该亲水滑水化处理剂的表面处理方法、通过该表面处理方法形成了亲水滑水性被膜的基材、以及通过该表面处理方法形成了亲水滑水性被膜的热交换器用翅片材。一种处理剂，设为含有具备含亲水性链的基和水解性基这两者的特定结构有机硅化合物、以及金属醇盐。

技术领域

本发明涉及亲水滑水化处理剂、使用了该亲水滑水化处理剂的表面处理方法、通过该表面处理方法形成了亲水滑水性被膜的基材、以及通过该表面处理方法形成了亲水滑水性被膜的热交换器用翅片材。

背景技术

以往，已知有对金属基材的表面实施亲水化处理的技术。例如，在使用铝的热交换器中，为了防止冷凝水附着在翅片表面引起的噪声的产生、水滴飞溅导致的污染等问题，对翅片表面实施亲水化处理。

作为对金属基材的亲水化处理中使用的亲水化处理剂，例如，提出了含有具有乙酰乙酰基和氧化烯基的改性聚乙烯醇系树脂、以及交联剂的亲水化处理剂(参照专利文献1)。利用专利文献1中记载的亲水化处理剂，能够形成不仅亲水性优异，而且耐水性也优异的被膜。

然而，在亲水性优异的被膜上，有冷凝水稳定化而难以被除去的倾向。即，越是亲水性优异的被膜，水滴除去性越差。于是，作为亲水且水滴除去性优异的处理剂，公开了含有亲水性聚合物(a)和交联剂(b)的亲水性涂料(参照专利文献2)。

然而，专利文献2记载的亲水性涂料会引发使用交联剂的固化反应，必须进行高温下的烘烤干燥。具体地，通常必须在原材料达到的最高温度约为150～约250℃、优选190～240℃的高温下烧印(引用文献2第[0063]段)。

与此相对，也提出了可在低温下干燥、能够形成滑水性优异的被膜的表面处理剂(参照专利文献3)。专利文献3记载的处理剂含有有机硅烷和金属醇盐，通过在含有有机溶剂、水、催化剂的溶液中共水解-缩聚来获得被膜。

然而，专利文献3记载的被膜不是亲水性的，而是疏水性的，其接触角为100°左右。因此是无法在需要亲水性被膜的材料中应用的状况。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-141625号公报

专利文献2：日本特开2016-155923号公报

专利文献3：日本特开2013-213181号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是鉴于上述背景技术做出的，其目的在于，提供能够通过低温下的干燥形成具有亲水性也具有水滴除去性的被膜的亲水滑水化处理剂、使用了该亲水滑水化处理剂的表面处理方法、通过该表面处理方法形成了亲水滑水性被膜的基材、以及通过该表面处理方法形成了亲水滑水性被膜的热交换器用翅片材。

用于解决课题的方法

为了解决上述课题，本发明人等进行了深入研究。于是，发现如果制成含有具有含亲水性链的基和水解性基这两者的特定结构有机硅化合物、以及金属醇盐的处理剂，则能够解决上述课题，从而完成了本发明。

即，本发明为一种亲水滑水化处理剂，其含有在至少1个硅原子上结合有至少1个含亲水性链的基和至少1个水解性基的有机硅化合物(A)、以及金属醇盐(B)，前述有机硅化合物(A)与前述金属醇盐(B)的摩尔比(A/B)为0.07～0.4。

前述含亲水性链的基可以为下述式(1)所表示的基。

[化1]

(式中，R¹为氢原子、烷基、烷氧基、环烷基、烯基、芳香族烃基或羟基，