[发明专利]亲水滑水化处理剂和表面处理方法有效

专利信息
申请号: 202080009183.7 申请日: 2020-01-23
公开(公告)号: CN113316620B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 金子宗平;松崎正干;穗积笃;浦田千寻 申请(专利权)人: 日涂表面处理化工有限公司;国立研究开发法人产业技术综合研究所
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D1/00;B05D5/04;B05D7/14;B05D7/24
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;张默
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 滑水 处理 表面 方法
【权利要求书】:

1.一种亲水滑水化处理剂,含有:

在1个硅原子上结合有1个由下述式(1)表示的含亲水性链的基和3个水解性基的有机硅化合物(A)、以及

金属醇盐(B),

所述有机硅化合物(A)与所述金属醇盐(B)的摩尔比(A/B)为0.07~0.4,

所述金属醇盐(B)中的金属为Al、Fe、In、Hf、Si、Sn或者Zr,

式中,R1为氢原子、烷基、烷氧基、环烷基、烯基、芳香族烃基或羟基,

R2为碳数1~5的亚烷基,当1个含亲水性链的基中存在多个R2的情况下,各R2彼此可以相同也可以不同,

n为4~12的整数,

R3为碳数1~5的亚烷基。

2.根据权利要求1所述的亲水滑水化处理剂,所述式(1)中的R2为亚乙基。

3.根据权利要求1所述的亲水滑水化处理剂,所述式(1)中的R1为烷氧基。

4.根据权利要求1所述的亲水滑水化处理剂,所述式(1)中的R1为甲氧基。

5.根据权利要求1所述的亲水滑水化处理剂,所述水解性基为烷氧基。

6.根据权利要求5所述的亲水滑水化处理剂,所述水解性基为甲氧基。

7.一种表面处理方法,包括使权利要求1~6中任一项所述的亲水滑水化处理剂与要赋予亲水滑水性的基材的表面接触而形成亲水滑水性被膜的亲水滑水性被膜形成工序。

8.根据权利要求7所述的表面处理方法,所述基材为铝。

9.根据权利要求7所述的表面处理方法,所述基材为热交换器用翅片材。

10.一种基材,通过权利要求7所述的表面处理方法在表面形成了亲水滑水性被膜。

11.一种热交换器用翅片材,通过权利要求7所述的表面处理方法在表面形成了亲水滑水性被膜。

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