[实用新型]蒸镀坩埚及蒸镀装置

说明书

本申请涉及蒸镀设备技术领域，提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀装置，前者包括坩埚本体和颈筒；坩埚本体为顶部开口的桶状结构；颈筒的一端与坩埚本体的顶部开口对接，另一端作为供蒸镀材料逸散的出口；其中，沿远离坩埚本体的方向，颈筒的口径先减小后增大。后者包括前者。由于坩埚本体的顶部开口处设置有颈筒，且沿远离坩埚本体1的方向颈筒的口径设置成先减小后增大，这样沙漏状的颈筒可以对坩埚本体的喷溅出来热融化状态下的蒸镀材料进行较好的阻挡，从而解决了现有的蒸镀坩埚在使用时存在的蒸镀材料易喷溅到基材、影响蒸镀品质的问题。

技术领域

本申请涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种蒸镀坩埚及蒸镀装置。

背景技术

在OLED面板制备过程中，蒸镀工艺是其中十分重要的关键工序。在蒸镀过程中，先采用掩膜板遮挡基材，蒸镀材料在蒸镀坩埚加热挥发并从掩膜板开口蒸镀到对应的基材位置上。

目前常用的蒸镀工艺有点状蒸镀，而且对于点状蒸镀，其蒸镀设备中一般包括一个小型圆桶状的蒸镀坩埚，金属蒸镀材料在蒸镀坩埚中加热成气态并从圆桶状蒸镀坩埚的开口向上逸出，从而对基材进行蒸镀。

但是，点状蒸镀时蒸镀坩埚的蒸镀材料在热融化状态下不可避免的会出现少量的蒸镀材料从开口喷溅，一方面造成蒸镀材料的浪费，另一方面当热融化状态下的蒸镀材料喷溅到基材时还会严重影响蒸镀品质。

因此，市面上亟需一种能够解决点状蒸镀工艺中蒸镀坩埚易出现蒸镀材料喷溅到基材、影响蒸镀品质问题的蒸镀坩埚。

实用新型内容

有鉴于此，本申请提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀装置，用以解决现有点状蒸镀工艺中的蒸镀坩埚在使用时蒸镀材料易喷溅到基材、影响蒸镀品质的问题。

本申请提供的蒸镀坩埚包括坩埚本体和颈筒；

所述坩埚本体为顶部开口的桶状结构；

所述颈筒的一端与所述坩埚本体的顶部开口对接，另一端作为供蒸镀材料逸散的出口；

其中，沿远离所述坩埚本体的方向，所述颈筒的口径先减小后增大。

该蒸镀坩埚在使用时，首先将蒸镀材料放置于坩埚本体的容腔中，再对坩埚本体进行加热即可。由于坩埚本体的顶部开口处设置有颈筒，且沿远离坩埚本体1的方向颈筒的口径设置成先减小后增大，这样沙漏状的颈筒可以对坩埚本体的喷溅出来热融化状态下的蒸镀材料进行较好的阻挡，从而避免蒸镀材料喷溅到基材、影响蒸镀品质。

除此之外，加热后处于气态的蒸镀材料在经由颈筒喷出时，首先会被颈筒进行一定的聚拢，然后再将蒸镀材料发散喷出，从而增大了该蒸镀坩埚的有效蒸镀角，使得该蒸镀坩埚与基板可以在较近距离上仍可保证蒸镀均匀性，并提高蒸镀材料利用率。

在一种可能的设计中，沿远离所述坩埚本体的方向，所述颈筒包括口径逐渐减小的第一筒段和口径逐渐增大的第二筒段；

其中，所述第二筒段的长度大于所述第一筒段的长度。

这样第一筒段的周壁与水平方向的夹角可以更小，也即第一筒段的口径沿远离坩埚本体1的方向收缩的“更急”，而第二筒段的周壁与水平方向的夹角可以更大，也即第二筒段的口径沿远离坩埚本体的方向收缩的“更缓”，从而使的第一筒段可以更好的阻挡喷溅出来的液态蒸镀材料、使第二筒段可以更好的控制气态蒸镀材料喷镀的均匀性。

在一种可能的设计中，所述第一筒段与所述第二筒段平滑对接。

这样第一筒段内周壁与第二筒段的周壁可以形成双曲线型，加热后处于气态的蒸镀材料在经由颈筒喷出时，气态的蒸镀材料在第一筒段与第二筒段的对接处可以更顺畅、平缓地通过。

在一种可能的设计中，所述颈筒的出口口径大于或等于所述坩埚本体的口径。