[实用新型]一种自动涂胶显影装置

说明书

本实用新型公开了一种自动涂胶显影装置，包括底架，所述底架的顶部转动连接有主轴，主轴的下端连接有驱动装置，主轴上转动套接有轴套，轴套的下端连接有承载板，承载板与底架之间设有升降部件。本实用新型结构简单，将晶圆置于转盘，通过气管抽气，使转盘内部形成负压状态，从而吸盘将晶圆紧紧吸附在转盘上，在晶圆中心置入光阻胶，气缸伸长，保证转盘进入储胶罩中，此时电机通过齿轮传动，带动转盘转动，在离心力的作用下，光阻均匀涂抹在转盘，多余的的光阻则进入储胶罩，避免随处乱溅，随后气缸回缩，转盘相对储胶罩上升，直至伸出储胶罩，方便拿取晶圆。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种自动涂胶显影装置。

背景技术

在半导体制造过程中，一般的光刻工艺要经历晶圆表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，其中涂胶工序是光刻工艺中重要的工序之一，晶圆表面涂胶的均匀程度以及厚度直接影响光刻效果。涂胶工序是在一涂胶腔室内完成的，涂胶腔室内设置有用于承载晶圆的可旋转的静电吸盘，在静电吸盘的上方设置有光阻喷嘴，用于在晶圆表面涂覆光阻，在涂胶工序中，晶圆的边缘放置在涂胶腔室的排气通道内，排气通道连接一排气泵，排气通道和排气泵构成排气系统。在涂胶工序中，晶圆一般会置于腔室中，不方便晶圆的上下料。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种自动涂胶显影装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种自动涂胶显影装置，包括底架，所述底架的顶部转动连接有主轴，主轴的下端连接有驱动装置，主轴上转动套接有轴套，轴套的下端连接有承载板，承载板与底架之间设有升降部件，轴套上套接有储胶罩，主轴的上端连接有转盘，转盘和主轴均为中空结构，转盘下端转动连接有气管，气管位于主轴中，转盘的顶部均匀分布于与转盘连通的吸盘。

优选地，所述转盘的外圈等距连接有吸气头，吸气头与转盘内部连通。

优选地，所述驱动装置包括安装在底架上的电机，电机的输出端连接有主动锥齿轮，主动锥齿轮啮合有从动锥齿轮，从动锥齿轮与主轴连接。

优选地，所述升降部件包括安装在底架顶部的气缸，气缸的输出端与承载板连接，多个气缸等间距分布在承载板与底架之间。

优选地，所述储胶罩的底部外侧连通有出胶管，出胶管的端部螺纹连接有密封盖。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单，将晶圆置于转盘，通过气管抽气，使转盘内部形成负压状态，从而吸盘将晶圆紧紧吸附在转盘上，在晶圆中心置入光阻胶，气缸伸长，保证转盘进入储胶罩中，此时电机通过齿轮传动，带动转盘转动，在离心力的作用下，光阻均匀涂抹在转盘，多余的的光阻则进入储胶罩，避免随处乱溅，随后气缸回缩，转盘相对储胶罩上升，直至伸出储胶罩，方便拿取晶圆。

附图说明

图1为本实用新型提出的结构示意图。

图中：底架1、气管2、电机3、从动锥齿轮4、气缸5、主轴6、承载板7、轴套8、储胶罩9、出胶管10、吸气头11、转盘12、吸盘13。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1，一种自动涂胶显影装置，包括底架1，底架1的顶部转动连接有主轴6，主轴6的下端连接有驱动装置，主轴6上转动套接有轴套8，轴套8的下端连接有承载板7，承载板7与底架1之间设有升降部件，轴套8上套接有储胶罩9，主轴6的上端连接有转盘12，转盘12和主轴6均为中空结构，转盘12下端转动连接有气管2，气管2位于主轴6中，转盘12的顶部均匀分布于与转盘12连通的吸盘13，气管2的另一端与外部气泵连接。