[实用新型]一种半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置有效
| 申请号: | 202023309839.3 | 申请日: | 2020-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN215236597U | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
| 发明(设计)人: | 江磊 | 申请(专利权)人: | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 |
| 主分类号: | B08B9/34 | 分类号: | B08B9/34;B08B13/00;F26B21/14 |
| 代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 王利斌 |
| 地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 化学品 容器 喷淋 清洗 干燥 装置 | ||
本实用新型公开了一种半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置,包括容器,容器周围设有容器支架,容器腔体内设有氮气管路,氮气管路靠近容器底端的一端设有喷头,氮气管路远离喷头的另一端设有氮气气源,氮气管路与氮气气源之间的管路上分别设有与之连接的纯水管路、气体过滤器与调压装置,纯水管路远离氮气管路的另一端设有超纯水水源,纯水管路与超纯水水源之间分别设有纯水过滤器与增压泵。本实用新型的有益效果:纯水管道和氮气管道在截止阀后交汇,连接至喷淋管道,喷淋管道的末端装有球形喷头,此外,该装置还包括承载容器的支架,先通过超纯水气流对容器内表面喷淋清洗,然后再通过高纯氮气对容器内壁进行吹扫干燥,达到高效减排的目的。
技术领域
本实用新型涉及化学品容易清洗装置技术领域,具体为一种半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置。
背景技术
随着半导体制程精度的提升,对化学品纯度的要求也越来越高。为保证化学品的纯度,需要使用专用的容器进行运输,由于容器造价昂贵,容器必须循环使用。循环容器由于存在被污染的潜在风险,再次充填前需要充分清洗。传统的清洗方式需要使用大量物料进行润洗,会产生大量废液并带来额外的废液处置成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置,包括容器,所述容器周围设有容器支架,所述容器腔体内设有氮气管路,所述氮气管路靠近所述容器底端的一端设有喷头,所述氮气管路远离所述喷头的另一端设有氮气气源,所述氮气管路与所述氮气气源之间的管路上分别设有与之连接的纯水管路、气体过滤器与调压装置,所述纯水管路远离所述氮气管路的另一端设有超纯水水源,所述纯水管路与所述超纯水水源之间分别设有纯水过滤器与增压泵。
优选的,所述喷头为球形喷头,其外周围开设有多个喷洒孔。
优选的,所述调压装置上设有第一压力显示表。
优选的,所述纯水过滤器与所述增压泵之间的管路上设有第二压力显示表。
优选的,所述氮气管路与所述纯水管路靠近所述容器的一端均设有截止阀。
有益效果
本实用新型所提供的半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置,纯水管道和氮气管道在截止阀后交汇,连接至喷淋管道,喷淋管道的末端装有球形喷头,此外,该装置还包括承载容器的支架,先通过超纯水气流对容器内表面喷淋清洗,然后再通过高纯氮气对容器内壁进行吹扫干燥,达到高效减排的目的。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构平面示意图。
附图标记
1-容器,2-喷头,3-喷洒孔,4-氮气管路,5-纯水管路,6-气体过滤器,7-调压装置,8-第一压力显示表,9-氮气气源,10-纯水过滤器,11-第二压力显示表,12-增压泵,13-超纯水水源,14-容器支架。
具体实施方式
以下是本实用新型的具体实施例并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步的描述,但本实用新型并不限于这些实施例。
实施例
如图1所示,一种半导体化学品容器喷淋清洗干燥装置,包括容器1,容器1周围设有容器支架14,容器1腔体内设有氮气管路4,氮气管路4靠近容器1底端的一端设有喷头2,氮气管路4远离喷头2的另一端设有氮气气源9,氮气管路4与氮气气源9之间的管路上分别设有与之连接的纯水管路5、气体过滤器6与调压装置7,纯水管路5远离氮气管路4的另一端设有超纯水水源13,纯水管路5与超纯水水源13之间分别设有纯水过滤器10与增压泵12。
优选的,喷头2为球形喷头,其外周围开设有多个喷洒孔3。
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