[实用新型]一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置

权利要求书

1.一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，应用于连续镀膜设备中，所述连续镀膜设备包括七个镀膜室，镀膜设备中的镀膜室依次为进端锁室、进端缓冲室、进端过渡室、工艺室、出端过渡室、出端缓冲室和出端锁室，其特征在于，所述工艺室中包括间隔设置的分子泵室和溅射室，所述分子泵室中设置有离子源，所述溅射室中设置有旋转阴极，所述离子源用于进行辅助处理，所述旋转阴极用于沉积薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述离子源设置分子泵室的上端和/或下端，用于对载板上基底的上表面和/或下表面进行辅助处理。

3.根据权利要求2所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述工艺室中包括至少两个分子泵室。

4.根据权利要求2所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述分子泵室设置有传感器，用于触发离子源工作。

5.根据权利要求3所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，离子源设置在分子泵室中的位置为分子泵位，所述分子泵位宽度大于单个旋转阴极位宽度。

6.根据权利要求3所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述分子泵室通过分子泵抽真空，所述分子泵设置在工艺室的侧面。

7.根据权利要求1所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述离子源为使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。

8.根据权利要求7所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述离子源为条形离子源。

9.根据权利要求8所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述离子源为阳极层离子源。

10.根据权利要求3所述的一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，其特征在于，所述工艺室中包括至少四个溅射室。