[实用新型]一种能够增强显影效果的显影装置有效
申请号: | 202023251674.9 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN214122683U | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 杨女燕 | 申请(专利权)人: | 陕西光电子集成电路先导技术研究院有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 戴媛 |
地址: | 710119 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 能够 增强 显影 效果 装置 | ||
本实用新型公开了一种能够增强显影效果的显影装置,包括显影腔室,显影腔室内底部连接旋转转轴,旋转转轴上连接晶圆载台,显影腔室上壁穿接显影液出液管,显影液出液管位于显影腔室内的一端在晶圆载台上方;通过喷嘴喷洒显影液,通过旋转转轴转动带动晶圆载台,在喷洒显影液时能够铺料均匀,避免铺料时出现气泡,且减少显影液的浪费。本实用新型的装置增加了背洗的功能,主要洗去从上方流下的显影液残余;侧边的氮气吹扫能使晶圆显影后保持一个干净的表面。
技术领域
本实用新型属于半导体器件制造光刻设备技术领域,具体涉及一种能够增强显影效果的显影装置。
背景技术
半导体器件制造工艺步骤最重要的一步就是光刻工艺,利用涂胶、曝光和显影将光掩膜版上的图形刻画在光刻胶表层,再通过刻蚀工艺将图形进一步转移到衬底上。通过光刻胶涂布,在晶圆表面形成抗蚀剂膜,再经由软烘促进胶膜内溶剂充分挥发;通过曝光,将光掩膜版上的图形转移到布满光刻胶的晶圆表面;通过显影,去除掉未感光的负胶或感光的正胶,使晶圆表面显示出所需的图形;最终通过刻蚀把图形刻在衬底上。在整个光刻过程中,如果不正确显影会导致图形出现显影不足、不完全显影和显影过度三种缺陷,从而直接影响到图形的呈现效果,如尺寸大小、晶圆表面形貌好坏,进一步影响到刻蚀。
目前市场上主流的一些自动显影设备主要采用连续喷雾显影或者旋覆浸没显影,对于一个小的工艺研发需求来说,这种大型的显影设备不仅会提高研发成本,而且会带来物料、水电气等的不必要浪费。然而,依靠人工来完成手动显影工作具备不稳定性,每一次显影晃动的手法、角度、力度等都是不同的,给研发过程带来诸多不确定因素。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种能够增强显影效果的显影装置,克服了现有的显影装置在显影液喷洒时晶圆涂胶表面易产生气泡的问题。
本实用新型所采用的技术方案是,一种能够增强显影效果的显影装置,包括显影腔室,显影腔室内底部连接旋转转轴,旋转转轴上连接晶圆载台,显影腔室上壁穿接显影液出液管,显影液出液管位于显影腔室内的一端在晶圆载台上方。
本实用新型的特点还在于:
显影腔室上壁穿接去离子水出液管,去离子水出液管位于显影腔室内的一端在晶圆载台上方。
显影液出液管、去离子水出液管位于显影腔室内的一端均连接出液喷嘴,出液喷嘴固定在晶圆载台上方。
出液喷嘴包括四个孔,其中三个孔形成等边三角形,第四个孔开设于等边三角形的中部。
去离子水出液管、显影液出液管均连接机械臂。
显影腔室侧壁穿接氮气吹气管,氮气吹气管正对晶圆载台侧面。
显影腔室侧壁穿接背洗出液管,背洗出液管位于显影腔室内的一端正对晶圆载台上底面。
显影腔室底部开设废液排出孔。
本实用新型有益效果是:
本实用新型一种能够增强显影效果的显影装置,通过喷嘴喷洒显影液,通过旋转转轴转动带动晶圆载台,在喷洒显影液时能够铺料均匀,避免铺料时出现气泡,且减少显影液的浪费。本实用新型的装置增加了背洗的功能,主要洗去从上方流下的显影液残余;侧边的氮气吹扫能使晶圆显影后保持一个干净的表面。
附图说明
图1是本实用新型中一种能够增强显影效果的显影装置的外观示意图。
图中,1.显影腔室,2.机械臂,3.去离子水出液管,4.显影液出液管,5.出液喷嘴,6.氮气吹气管,7.背洗出液管,8.废液排出孔,9.晶圆载台,10.待显影晶圆,11.旋转转轴。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施方式对本实用新型进行详细说明。
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