[实用新型]一种常压化学气相沉积设备

说明书

本实用新型公开一种常压化学气相沉积设备，涉及常压化学沉积技术领域，包括进气箱、扩散头、加热体组件、横臂、转台、机械手、装料运载平台、晶圆料车、风机过滤机组和真空系统；风机过滤机组设置于所述装料运载平台上方；所述机械手设置于所述装料运载平台与所述转台之间；所述横臂可滑动的设置于所述转台远离所述机械手的一侧，所述加热体组件设置于所述横臂上方；所述扩散头设置于所述加热体组件正下方，所述进气箱与所述扩散头相连通；所述真空系统用于为所述机械手和所述加热体组件提供真空环境。本实用新型中的常压化学气相沉积设备，可常压化学气相沉积多种薄膜，并能有效提高设备集成度、降低自动化难度、缩小占地面积、提高设备产能。

技术领域

本实用新型涉及常压化学沉积技术领域，特别是涉及一种常压化学气相沉积设备。

背景技术

APCVD即常压化学气相淀积，是指在大气压下进行的一种化学气相沉积的方法，这是化学气相沉积最初所采用的方法。这种工艺所需的系统简单，反应速度快，但是均匀性较差，台阶覆盖能力差，所以一般用于厚的介质沉积。

实用新型内容

为解决以上技术问题，本实用新型提供一种常压化学气相沉积设备，以提高沉积薄膜的均匀性。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下方案：

本实用新型提供一种常压化学气相沉积设备，包括进气箱、扩散头、加热体组件、横臂、转台、机械手、装料运载平台、晶圆料车、风机过滤机组和真空系统；所述风机过滤机组设置于所述装料运载平台上方；所述机械手设置于所述装料运载平台与所述转台之间；所述横臂可滑动的设置于所述转台远离所述机械手的一侧，所述加热体设置于所述横臂上方；所述扩散头设置于所述加热体组件正下方，所述进气箱与所述扩散头相连通；所述进气箱还与加热体组件相连通；所述真空系统用于为所述机械手和所述加热体组件提供真空环境。

可选的，所述机械手包括吸盘夹具，所述吸盘夹具用于在所述装料运载平台与所述转台之间传送晶圆。

可选的，所述转台包括对称设置的两个托板，所述两个托板绕所述转台的中间轴转动。

可选的，所述转台靠近所述加热体一侧的所述托板底部设置有一晶圆料车，所述晶圆料车用于举升所述托板上的晶圆。

可选的，所述加热体组件底部设置有一吸附口，所述吸附口与所述真空系统相连通，所述吸附口与进气箱相连通。

可选的，所述吸附口处设置有一非金属垫圈。

可选的，所述扩散头连通有冷却水管路。

可选的，所述装料运载平台上设置有多个料盒。

可选的，所述加热体组件的加热范围为室温至1300℃。

本实用新型相对于现有技术取得了以下技术效果：

本实用新型中的常压化学气相沉积设备，可常压化学气相沉积多种薄膜，并能有效提高设备集成度、降低自动化难度、缩小占地面积、提高设备产能。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例的晶圆沉积状态时的侧视图；

图2是本实用新型实施例的晶圆沉积状态时的俯视图；

图3是本实用新型实施例的完成沉积晶圆卸载状态时或等待沉积晶圆安装状态时的侧视图。