[实用新型]带倒V型空腔的3D围坝结构有效

专利信息
申请号: 202023212913.X 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN213936222U 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 袁广;罗素扑;黄嘉铧 申请(专利权)人: 惠州市芯瓷半导体有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01S5/02208
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 代理人: 吴成开;徐勋夫
地址: 516100 广东省惠州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 空腔 结构
【说明书】:

实用新型公开一种带倒V型空腔的3D围坝结构,包括有绝缘基板,该绝缘基板的下表面电镀形成有下线路层,绝缘基板的上表面形成有上线路层和环形底层,该环形底层位于上线路层的外围;该环形底层的表面自下而上电镀加厚形成有第一环形加厚层和第二环形加厚层,该环形底层、第一环形加厚层和第二环形加厚层组成形成围坝,第一环形加厚层具有第一槽孔,该第二环形加厚层具有第二槽孔,该第二槽孔的内径小于第一槽孔的内径,第二槽孔与第一槽孔组合形成倒V型空腔。通过设置第一环形加厚层和第二环形加厚层,并配合由第二槽孔与第一槽孔组合形成倒V型空腔,使得围坝可以遮挡封装芯片的部分光线,形成封装暗盒,满足使用的需要,为使用带来便利。

技术领域

本实用新型涉及光电器件领域技术,尤其是指一种带倒V型空腔的3D围坝结构。

背景技术

目前对封装气密性及可靠性要求较高的传感器、晶体振荡器、谐振器、功率型半导体、激光器等光电器件来说,一般采用陶瓷基板封装,其常用结构是在带有线路层的陶瓷底座上设置金属围坝,金属围坝与陶瓷底座围构形成空腔,用于放置器件芯片,填充封装胶水、惰性气体或者直接抽真空,从而实现高可靠性的气密封装。

现有技术中,金属围坝均为垂直型的或者V型结构,无法遮挡封装芯片的部分光线,不能满足使用的需要。因此,有必要研究一种方案以解决上述问题。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种带倒V型空腔的3D围坝结构,其能有效解决现有之金属围坝无法遮挡封装芯片的部分光线导致不能满足使用需要的问题。

为实现上述目的,本实用新型采用如下之技术方案:

一种带倒V型空腔的3D围坝结构,包括有绝缘基板,该绝缘基板的下表面电镀形成有下线路层,绝缘基板的上表面形成有上线路层和环形底层,该环形底层位于上线路层的外围,且绝缘基板的上下表面贯穿形成有导通孔,该导通孔中填铜而将下线路层和上线路层导通连接;以及,该环形底层的表面自下而上电镀加厚形成有第一环形加厚层和第二环形加厚层,该环形底层、第一环形加厚层和第二环形加厚层组成形成围坝,第一环形加厚层具有第一槽孔,该第二环形加厚层具有第二槽孔,该第二槽孔的内径小于第一槽孔的内径,第二槽孔与第一槽孔组合形成倒V型空腔。

作为一种优选方案,所述第一环形加厚层的厚度小于第二环形加厚层的厚度,第一环形加厚层的宽度小于第二环形加厚层的宽度。

作为一种优选方案,所述第二环形加厚层的表面进一步电镀加厚形成有第三环形加厚层,该第三环形加厚层具有第三槽孔,该第三槽孔的内径小于第二槽孔的内径,第三槽孔、第二槽孔与第一槽孔组合形成倒V型空腔。

作为一种优选方案,所述第二环形加厚层的厚度小于第三环形加厚层的厚度,第二环形加厚层的宽度小于第三环形加厚层的宽度。

作为一种优选方案,所述第一环形加厚层的外周侧面和第二环形加厚层的外周侧面在竖直方向下平齐。

作为一种优选方案,所述绝缘基板为陶瓷板。

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:

通过设置第一环形加厚层和第二环形加厚层,并配合由第二槽孔与第一槽孔组合形成倒V型空腔,使得围坝可以遮挡封装芯片的部分光线,形成封装暗盒,满足使用的需要,为使用带来便利。

为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明。

附图说明

图1是本实用新型之较佳实施例制作过程的第一状态示意图;

图2是本实用新型之较佳实施例制作过程的第二状态示意图;

图3是本实用新型之较佳实施例制作过程的第三状态示意图;

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