[实用新型]一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器

说明书

本实用新型涉及一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器，包括循迹结构和工作区域，所述循迹结构位于所述工作区域的外侧，所述工作区域包括多个子区域，所述子区域包括矩阵二维栅格结构，多个所述子区域中至少二个矩阵二维栅格的计量尺寸不同，所述循迹结构包括循迹标识，所述循迹标识位于所述工作区域外侧，所述循迹标识用于辅助引导操作者定位所述矩阵二维栅格结构位置。通过提供了不同计量尺寸的矩阵二维栅格结构，扩大了标准器可适用的仪器型号范围；解决了现有技术中在校准不同倍率镜头时需要多次更换标准器，测量效率低，影响测量结果准确性的问题。

技术领域

本实用新型涉及三维显微镜校准技术领域，尤其涉及一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器。

背景技术

基于重构法的三维显微镜是一种非接触式测量工件三维表面形貌的测量设备，其基本原理是通过采集大量二维断层图像经软件重构后得到工件表面的三维图像。目前常见的基于重构法的三维显微镜主要包括白光干涉仪、共聚焦显微镜、光学三维扫描测量仪等，具有快速、非接触式测量获得材料粗糙度、二维/三维表面分析以及高分辨率成像的特点，广泛应用于半导体电路、LED、太阳能电池、薄膜材料、MEMS、精密机械零部件、摩擦磨损等各个领域。

目前该类三维显微镜产品校准相关的国家规范尚处空白状态，用于其校准的标准器也仍不完善，作为一种三维图像测试设备，其纵向校准可以使用台阶高度标准器实现，但横向校准的标准器尚不完善。考虑到该类仪器的三维重构特性，要求标准器的线纹立体形貌中横向与纵向垂直度高，传统的线纹尺等标准器不再适用，可考虑使用用于微纳米尺寸长度校准的一维栅格或二维栅格。为了同时测量仪器在平面横向扫描的线性效应和放大倍率，推荐使用二维栅格开展横向校准。但由于三维显微镜类产品不同倍率镜头带来测量范围跨度较大，目前市场上已有的二维栅格均为尺寸单一，需要配备多种尺寸标准开展校准工作，会大大增加标准器的购买及维护成本。

因此，需要一种可适用多种型号仪器并且可以提高测量效率和准确率的标准器来解决上述技术问题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器。解决了现有技术中在校准不同倍率镜头时需要多次更换标准器，测量效率低，影响测量结果准确性的问题。

本实用新型的技术效果通过如下实现的：

一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器，包括循迹结构和工作区域，所述循迹结构位于所述工作区域的外侧，所述工作区域包括多个子区域，所述子区域包括矩阵二维栅格结构，多个所述子区域中至少二个矩阵二维栅格的计量尺寸不同，所述循迹结构包括循迹标识，所述循迹标识位于所述工作区域外侧，所述循迹标识用于辅助引导操作者定位所述矩阵二维栅格结构位置。工作区域为三维光学显微镜的横向测长示值误差、图形畸变的校准提供了多种不同计量尺寸的矩阵二维栅格结构，提高了标准器可适用的仪器型号范围，也省去了在校准不同倍率镜头时更换标准器的过程，提高了测量的效率和准确性，有助于保证测量结果的一致性。循迹标识使得在测量前可以快速定位标准计量尺寸栅格位置，从而实现测量过程中标准样板的可循迹、快速与重复性测量。

进一步地，所述循迹结构为正方形。

进一步地，所述循迹标识位于所述正方形四边内侧。

进一步地，所述循迹标识为三角形，所述三角形的一个顶点指向所述工作区域。

进一步地，同一所述子区域中对应的所述矩阵二维栅格结构中栅格大小相同。

进一步地，同一所述子区域中对应的所述矩阵二维栅格结构中栅格的每行和每列的节距相同。

进一步地，所述子区域内标有所述矩阵二维栅格结构的节距。

进一步地，所述矩阵二维栅格结构中栅格的高度相同。

进一步地，多个所述子区域合并构成一个正方形。