[实用新型]一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器有效

申请号：	202023126234.0	申请日：	2020-12-22
公开（公告）号：	CN214333693U	公开（公告）日：	2021-10-01
发明（设计）人：	方丹;王云祥;黄红平;王震	申请（专利权）人：	苏州市计量测试院
主分类号：	G01B11/30	分类号：	G01B11/30;G01B9/02
代理公司：	广州三环专利商标代理有限公司 44202	代理人：	郝传鑫;贾允
地址：	215128 江***	国省代码：	江苏;32
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摘要：
搜索关键词：	一种用于三维显微镜横向误差校准标准
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【权利要求书】：

1.一种用于三维显微镜横向示值误差校准的标准器，其特征在于，包括循迹结构(1)和工作区域(2)，所述循迹结构(1)位于所述工作区域(2)的外侧，所述工作区域(2)包括多个子区域(21)，所述子区域(21)包括矩阵二维栅格(22)结构，多个所述子区域(21)中至少二个矩阵二维栅格(22)的计量尺寸不同，所述循迹结构(1)包括循迹标识(11)，所述循迹标识(11)位于所述工作区域(2)外侧，所述循迹标识(11)用于辅助引导操作者定位所述矩阵二维栅格(22)结构位置。

2.根据权利要求1所述的标准器，其特征在于，所述循迹结构(1)为正方形。

3.根据权利要求2所述的标准器，其特征在于，所述循迹标识(11)位于所述正方形四边内侧。

4.根据权利要求3所述的标准器，其特征在于，所述循迹标识(11)为三角形，所述三角形的一个顶点指向所述工作区域(2)。

5.根据权利要求1所述的标准器，其特征在于，同一所述子区域(21)中对应的所述矩阵二维栅格(22)结构中栅格大小相同。

6.根据权利要求5所述的标准器，其特征在于，同一所述子区域(21)中对应的所述矩阵二维栅格(22)结构中栅格的每行和每列的节距相同。

7.根据权利要求6所述的标准器，其特征在于，所述子区域(21)内标有所述矩阵二维栅格(22)结构的节距。

8.根据权利要求7所述的标准器，其特征在于，所述矩阵二维栅格(22)结构中栅格的高度相同。

9.根据权利要求1所述的标准器，其特征在于，多个所述子区域(21)合并构成一个正方形。

10.根据权利要求1所述的标准器，其特征在于，所述循迹结构(1)和所述工作区域(2)为一体化结构。

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