[实用新型]蒸镀设备有效
| 申请号: | 202023115357.4 | 申请日: | 2020-12-22 |
| 公开(公告)号: | CN214168112U | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
| 发明(设计)人: | 李洸焄 | 申请(专利权)人: | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 设备 | ||
本实用新型涉及一种蒸镀设备,包括蒸发源装置和工作平台,工作平台设置有贯穿其上下两侧面的多个蒸镀孔,多个蒸镀孔沿第一方向间隔设置,蒸发源装置位于工作平台的下方,工作平台的上侧面设置有温度计和用于运送掩模组件的驱动装置,驱动装置运送掩模组件沿第一方向运动,并使掩模组件与蒸镀孔选择性正对,蒸发源装置产生的蒸镀气体能够穿过蒸镀孔流至掩模组件并形成薄膜结构,温度计用于测量蒸镀气体的温度。通过在工作平台上设置温度计,温度计用于测量掩模组件的下侧面以及周围区域的蒸镀气体的温度,以利于对蒸镀气体的温度进行实时监控,具有保证蒸镀质量和蒸镀效率的特点。
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种蒸镀设备。
背景技术
在半导体显示制造过程中,蒸镀工艺被广泛应用。蒸镀工艺主要是通过坩埚加热蒸镀材料,使蒸镀材料蒸发形成蒸镀气体,蒸镀气体在玻璃板的表面沉积形成薄膜结构。由于蒸镀气体在玻璃板上沉积的效率受到蒸镀气体的温度的影响,因此,为保证沉积效率需要将玻璃板周围区域的蒸镀气体温度控制在一定范围内,通常该区域的气体温度不超过120℃。现有的蒸镀设置中,设置有一个沿水平方向延伸的工作平台,坩埚安装在工作平台的下方,玻璃板与掩模板一起组成掩模组件,掩模组件安装在工作平台的上方,且掩模组件沿工作平台的长度方向运动,在掩模组件的运动过程中,坩埚产生的蒸镀气体上升,并穿过工作平台上的蒸镀孔与掩模组件接触,实现蒸镀气体在玻璃板的表面沉积形成薄膜结构。由于坩埚与掩模组件之间存在一定的距离,因此蒸镀气体到达掩模组件附近区域的温度难以控制。以及,过高的蒸镀气体会对玻璃板造成不良的热影响,进而影响蒸镀质量以及蒸镀效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种蒸镀设备,其能够对蒸镀气体的温度进行监控,提高蒸镀质量以及蒸镀效率。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
提供的一种蒸镀设备,包括蒸发源装置和工作平台,所述工作平台设置有贯穿其上下两侧面的多个蒸镀孔,多个所述蒸镀孔沿第一方向间隔设置,所述蒸发源装置位于所述工作平台的下方,所述工作平台的上侧面设置有温度计和用于运送掩模组件的驱动装置,所述驱动装置驱动所述掩模组件沿所述第一方向运动,并使所述掩模组件与所述蒸镀孔选择性正对,所述蒸发源装置产生的蒸镀气体能够穿过所述蒸镀孔流至所述掩模组件并形成薄膜结构,所述温度计用于测量所述蒸镀气体的温度。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述温度计为多个,多个所述温度计沿所述第一方向间隔设置。
作为蒸镀设备的一种优选方案,沿所述第一方向,至少在所述工作平台的中部位置和两端位置设置有所述温度计。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述驱动装置包括沿第二方向间隔设置的滚轮组,所述滚轮组包括多个沿所述第一方向间隔设置的滚轮,所述掩模组件放置于所述滚轮上,且所述滚轮用于驱动所述掩模组件运动,所述第二方向与所述第一方向垂直。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述工作平台的上侧面还设置有散热板,所述散热板安装于相邻两个所述蒸镀孔之间,所述温度计设置于所述散热板的端部。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述散热板与所述掩模组件间隔,所述散热板与所述掩模组件之间的间距为L,L=50~100mm。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述温度计的量程为0~200℃。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述工作平台的上侧面还设置有安装支架,所述温度计可拆卸设置于所述安装支架上。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述安装支架包括竖直设置的第一安装板和水平设置的第二安装板,所述温度计安装于所述第二安装板上,所述第一安装板上设置有多个沿竖直方向间隔设置的连接孔,所述第二安装板通过紧固件安装于所述连接孔。
作为蒸镀设备的一种优选方案,所述蒸镀设备还包括蒸镀腔室,所述掩模组件位于所述蒸镀腔室内。
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