[实用新型]一种用于半导体的化学退镀液收集装置

说明书

本实用新型公开了一种用于半导体的化学退镀液收集装置，包括箱体，所述箱体顶部一体成型有进液口，所述进液口外壁固定连接有进液管，所述进液管一端安装有两通接头，所述进液管外壁安装有第一截止阀，所述两通接头一侧安装有泵体，所述泵体的输入端安装有橡胶软管，所述橡胶软管端部安装有陶瓷配重块，所述箱体内腔顶部固定连接有隔板，所述进液管末端贯穿隔板，所述隔板表面边缘处对称开设有通孔，所述箱体底部中心处安装有排液管，所述箱体内腔底部环设有弧形板。本实用新型通过退镀液面上升至进液口处时，同时在隔板边缘处设置通孔，可保持隔板下方空腔气压的平衡，通过隔板可有效的阻挡退镀液飞溅，避免对工作人员造成伤害。

技术领域

本实用新型涉及化工技术领域，具体为一种用于半导体的化学退镀液收集装置。

背景技术

化工是“化学工艺”、“化学工业”、“化学工程”等的简称。凡运用化学方法改变物质组成、结构或合成新物质的技术，都属于化学生产技术，也就是化学工艺，所得产品被称为化学品或化工产品。

退镀液，就是能够将各种镀在工件表面上的一层特殊金属或金属物质镀层，通过浸泡、加温、超声波、电解等方式有效去除，而对工件底材无溶解、无腐蚀、不变色的化学液体。

现有的用于半导体的化学退镀液收集装置主要存在以下缺点：

现有的半导体的化学退镀液收集装置在使用时，收集的退镀液容易飞溅，容易对工作人员造成伤害，同时在收集退镀液时，需要人工手持收集管，操作十分的不方便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于半导体的化学退镀液收集装置，避免在退镀液收集时飞溅，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种用于半导体的化学退镀液收集装置，包括箱体，所述箱体顶部一体成型有进液口，所述进液口外壁固定连接有进液管，所述进液管一端安装有两通接头，所述进液管外壁安装有第一截止阀，所述两通接头一侧安装有泵体，所述泵体的输入端安装有橡胶软管，所述橡胶软管端部安装有陶瓷配重块，所述箱体内腔顶部固定连接有隔板，所述进液管末端贯穿隔板，所述隔板表面边缘处对称开设有通孔，所述箱体底部中心处安装有排液管，所述箱体内腔底部环设有弧形板。

进一步的，所述箱体外壁镶嵌有观察窗，且所述观察窗表面设有刻度，通过设置观察窗，方便贯穿箱体内侧退镀液注入量。

进一步的，所述泵体的输出端与两通接头导通连接，所述陶瓷配重块呈环形结构设置，通过陶瓷配重块中空部分与橡胶软管端头处导通连接，有利于橡胶软管对退镀液进行抽取。

进一步的，所述进液口顶端可拆卸连接有盖板，所述盖板下表面环设有凸台，所述凸台外壁镶嵌有密封胶圈，通过凸台与进液口顶端相嵌合，并通过密封胶圈与进液口顶口内壁相贴合，有利于提高盖板与进液口处的密封效果，防止杂质进入到箱体内侧。

进一步的，所述箱体下方安装有底板，所述底板下方对称安装有万向轮，方便对箱体移动，降低了搬运时的劳动强度。

进一步的，所述排液管贯穿底板，且排液管末端凸出于底板边缘处，所述排液管末端安装有第二截止阀，通过打开第二截止阀、方便将箱体内部收集的退镀液排出。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：

1、本实用新型通过将陶瓷配重块放置在退镀槽中，在重力的作用下，陶瓷配重块会沉入至退镀槽底部，不需要人工手持橡胶软管，方便对退镀液收集，通过泵体接通电源后，利用橡胶软管将退镀槽中的退镀液抽入至进液管中，然后通过进液管将退镀液输送至箱体中，通过箱体内腔顶部设置有隔板，而且进液管末端贯穿隔板，当退镀液面上升至进液口处时，同时在隔板边缘处设置通孔，可保持隔板下方空腔气压的平衡，通过隔板可有效的阻挡退镀液飞溅，避免对工作人员造成伤害。