[实用新型]一种用于半导体的化学退镀液收集装置

权利要求书

1.一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：包括箱体（1），所述箱体（1）顶部一体成型有进液口（101），所述进液口（101）外壁固定连接有进液管（2），所述进液管（2）一端安装有两通接头（201），所述进液管（2）外壁安装有第一截止阀（202），所述两通接头（201）一侧安装有泵体（3），所述泵体（3）的输入端安装有橡胶软管（301），所述橡胶软管（301）端部安装有陶瓷配重块（302），所述箱体（1）内腔顶部固定连接有隔板（6），所述进液管（2）末端贯穿隔板（6），所述隔板（6）表面边缘处对称开设有通孔（601），所述箱体（1）底部中心处安装有排液管（7），所述箱体（1）内腔底部环设有弧形板（701）。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述箱体（1）外壁镶嵌有观察窗（102），且所述观察窗（102）表面设有刻度。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述泵体（3）的输出端与两通接头（201）导通连接，所述陶瓷配重块（302）呈环形结构设置。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述进液口（101）顶端可拆卸连接有盖板（4），所述盖板（4）下表面环设有凸台（401），所述凸台（401）外壁镶嵌有密封胶圈（402）。

5.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述箱体（1）下方安装有底板（5），所述底板（5）下方对称安装有万向轮（501）。

6.根据权利要求5所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述排液管（7）贯穿底板（5），且排液管（7）末端凸出于底板（5）边缘处，所述排液管（7）末端安装有第二截止阀（702）。