[实用新型]一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽有效

专利信息
申请号: 202023036135.3 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN213988836U 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 苏富琨;余光明;戴荣昌;曾朵清 申请(专利权)人: 福建雅鑫电子材料有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 许娆
地址: 365050 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 蚀刻 系统 混合
【权利要求书】:

1.一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽,包括第一槽体(1)和第二槽体(6),其特征在于:所述第一槽体(1)设置于第二槽体(6)左侧,且第一槽体(1)、第二槽体(6)上中部卡接连接有槽盖(2),所述槽盖(2)上中部贯穿连接有进料口(710),且槽盖(2)上中部两侧连接有密封组件(7),所述密封组件(7)包括伺服电机(705)、伸缩杆(706)和堵头(707),且伺服电机(705)底中部伸缩杆(706)底端活动连接有堵头(707),所述第一槽体(1)、第二槽体(6)外端中部以及内表面连接有防护组件(8),且防护组件(8)包括侧防护板(801)、端防护板(802)和安装箱(803),所述侧防护板(801)、端防护板(802)连接于第一槽体(1)、第二槽体(6)内两侧以及端部,且第一槽体(1)、第二槽体(6)外端中部安装箱(803)内腔体(809)底中部连接有直流电源(804),所述安装箱(803)前后端上中部竖向导管(805)的一侧中部通过套口(807)套接连接有横向导管(806)。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽,其特征在于,所述第一槽体(1)通过其端部的凸起与第二槽体(6)内端部的凹槽卡接连接,且第一槽体(1)、第二槽体(6)内端紧密贴合连接,第一槽体(1)、第二槽体(6)底表面为粗糙设置。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽,其特征在于,所述第一槽体(1)、第二槽体(6)上中部开设的卡槽(4)与槽盖(2)底边缘焊接的卡块(3)之间卡接连接,且第一槽体(1)、第二槽体(6)前后端两侧中部螺纹贯穿连接有第一紧固螺栓(5)。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽,其特征在于,所述侧防护板(801)、端防护板(802)连接处紧密贴合设置,且侧防护板(801)、端防护板(802)通过内侧中部两侧设置的第二紧固螺栓(808)与第一槽体(1)、第二槽体(6)螺纹连接,第二紧固螺栓(808)内端为不贯穿卡槽(4)设置。

5.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽,其特征在于,所述伺服电机(705)连接于其上端横向支板(704)底中部,且横向支板(704)通过底两侧中部的竖向支板(703)与横向支杆(702)上中部两侧卡接连接,横向支杆(702)连接于竖向支杆(701)内侧上中部。

6.根据权利要求5所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合槽,其特征在于,所述竖向支杆(701)前后端下中部焊接连接有限位块(708),且限位块(708)通过上中部贯穿设置的限位螺栓(709)与槽盖(2)上中部两侧螺纹连接,竖向支杆(701)内侧堵头(707)与进料口(710)之间螺纹连接。

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