[实用新型]一种化学镀槽有效
| 申请号: | 202022935763.9 | 申请日: | 2020-12-09 |
| 公开(公告)号: | CN214168127U | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
| 发明(设计)人: | 丁将 | 申请(专利权)人: | 上海聚晶电子设备有限公司 |
| 主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 201700 上海市青*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 化学 | ||
1.一种化学镀槽,包括镀槽(1),其特征在于:还包括设置在所述镀槽(1)底部的补液管(2)和设置在所述镀槽(1)周侧的收集槽(3),所述补液管(2)与所述镀槽(1)内部连通,所述收集槽(3)内设置有将收集槽(3)内的溶液送回溶液源的回流管(5)。
2.根据权利要求1所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述镀槽(1)槽体内部设置有倒立设置的锥形槽底(11),所述补液管(2)位于所述锥形槽底(11)的中心位置;
所述补液管(2)包括空心柱状的喷管和固定在所述喷管上的挡头(21),所述挡头(21)位于所述喷管靠近所述镀槽(1)内部的一端并悬于所述喷管上方。
3.根据权利要求2所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述镀槽(1)为长方体状的槽体,所述锥形槽底(11)为两块相同规格三角板(13)和两块相同规格的梯形板(12)围成的锥形凹底,所述三角板(13)和所述梯形板(12)均固定在所述镀槽(1)的内壁上。
4.根据权利要求3所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述补液管(2)固定在两个所述梯形板(12)之间,所述喷管靠近所述挡头(21)一端的端面不高于两个所述梯形板(12)的上板面交线,所述挡头(21)位于所述梯形板(12)上方。
5.根据权利要求4所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述挡头(21)靠近所述喷管的一侧配合两侧的三角板(13)设置有两个引流斜面(23)。
6.根据权利要求1-5任一项所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述收集槽(3)的槽壁高于所述镀槽(1)的槽边。
7.根据权利要求1所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述收集槽(3)的槽底为向所述回流管(5)倾斜的斜底(32)。
8.根据权利要求2所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述收集槽(3)的槽底固定在所述镀槽(1)的侧壁上且位于所述锥形槽底(11)的上方,所述收集槽(3)的槽底下方设置有汇集槽(4),所述回流管(5)为设置在所述收集槽(3)底部的管道,所述回流管(5)与所述收集槽(3)内部连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





