[实用新型]一种双转盘机构

权利要求书

1.一种双转盘机构，其特征在于：包括机架（6）、大转盘（1）以及至少两个小转盘（2）；

所述大转盘（1）转动设置于所述机架（6）上，并绕一第一转轴（11）做水平转动，该第一转轴（11）位于大转盘（1）水平方向的几何中心点；

各所述小转盘（2）以所述大转盘（1）的所述几何中心点为基准，对称设置于所述大转盘（1）的上表面，并通过大转盘（1）的转动将各小转盘（2）在一装载工位（A）和一加工工位（B）间来回切换；

各所述小转盘（2）均相对所述大转盘（1）具有上升转动和下降定位两个状态；

其中，当所述小转盘（2）位于所述加工工位（B）时，做所述上升转动以及所述下降定位，小转盘（2）转动时，其转动轴为第二转轴（21），且该第二转轴（21）与所述第一转轴（11）平行；

当所述小转盘（2）位于所述装载工位（A）时，小转盘（2）仅为所述下降定位状态。

2.根据权利要求1所述的双转盘机构，其特征在于：所述双转盘机构还包括第一转动驱动组件（3）、升降驱动组件（4）以及第二转动驱动组件（5）；

所述第一转动驱动组件（3）连设于所述机架（6）上，并与所述大转盘（1）的下方传动连接，驱动所述大转盘（1）绕所述第一转轴（11）转动；

所述升降驱动组件（4）连设于所述机架（6）上，并与位于所述加工工位（B）的所述小转盘（2）的下方传动连接，驱动该小转盘（2）沿上下方向往复位移；

所述第二转动驱动组件（5）连设于所述升降驱动组件（4）上，并驱动位于所述加工工位（B）的所述小转盘（2）绕所述第二转轴（21）转动。

3.根据权利要求1所述的双转盘机构，其特征在于：所述大转盘（1）上表面对应各工位布置有多个定位块（12），多个所述定位块（12）形成定位腔，以构成所述小转盘（2）沿水平方向定位于所述定位腔内。

4.根据权利要求1所述的双转盘机构，其特征在于：各所述小转盘（2）的第二转轴（21）均与所述第一转轴（11）等距设置。

5.根据权利要求1所述的双转盘机构，其特征在于：所述机架（6）对应所述大转盘（1）设有支撑座（7），所述支撑座（7）具有与所述大转盘（1）紧贴配合的支撑面，构成当所述大转盘（1）向下倾斜时，通过支撑面与大转盘（1）下表面的挤压配合以使所述大转盘（1）定位。

6.根据权利要求2所述的双转盘机构，其特征在于：所述大转盘（1）对应各所述小转盘（2）的下方均设有一开口，所述升降驱动组件（4）位于其中一所述开口下方，构成所述第二转动驱动组件（5）在升降驱动组件（4）的驱动下朝向该所述小转盘（2）向上位移，并通过所述开口与该所述小转盘（2）传动连接。

7.根据权利要求2所述的双转盘机构，其特征在于：所述第一转动驱动组件（3）为伺服电机。

8.根据权利要求2所述的双转盘机构，其特征在于：所述升降驱动组件（4）为升降气缸。

9.根据权利要求2所述的双转盘机构，其特征在于：所述第二转动驱动组件（5）为伺服电机。