[实用新型]一种太阳能电池片有效

专利信息
申请号: 202022912771.1 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN214254436U 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 张树德;魏青竹;刘玉申;况亚伟;赵保星;缪乾;符欣;连维飞;倪志春 申请(专利权)人: 苏州腾晖光伏技术有限公司;常熟理工学院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/0224
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 李萍
地址: 215500 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳能电池
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池片,其特征在于,所述太阳能电池片包括:

P型硅片;

P型轻掺杂层,其形成于所述P型硅片的正面上,所述P型硅片的局部上开设有槽,所述槽延伸至所述P型硅片的正面而使所述P型硅片的局部表面露出;

P型重掺杂部,其形成于所述P型硅片的位于所述槽内的表面上;

正面介质层,其形成于所述P型轻掺杂层上;

正面电极,其形成于所述P型重掺杂部上;

背面介质层,其形成于所述P型硅片的背面之上;及

背面电极,其穿过所述背面介质层。

2.根据权利要求1所述的太阳能电池片,其特征在于:所述P型重掺杂部的宽度40~200um。

3.根据权利要求2所述的太阳能电池片,其特征在于:所述正面电极穿透所述正面介质层与所述P型重掺杂部形成欧姆接触。

4.根据权利要求3所述的太阳能电池片,其特征在于:所述正面电极宽度小于所述P型重掺杂部宽度。

5.根据权利要求1所述的太阳能电池片,其特征在于:所述太阳能电池片还包括形成于所述P型硅片的背面上的隧穿氧化层及形成于所述隧穿氧化层上的N型晶硅薄层,所述背面介质层形成于所述N型晶硅薄层上,所述背面电极穿过所述背面介质层而和所述N型晶硅薄层接触。

6.根据权利要求5所述的太阳能电池片,其特征在于:所述隧穿氧化层的厚度为1~2nm。

7.根据权利要求5所述的太阳能电池片,其特征在于:所述背面介质层为氮化硅层、氧化铝层、氧化硅层、氮氧化硅层。

8.根据权利要求5所述的太阳能电池片,其特征在于:所述背面电极穿透所述背面介质层与所述N型晶硅薄层接触。

9.根据权利要求1所述的太阳能电池片,其特征在于:所述P型轻掺杂层的方阻为150Ω/sq以上,暗复合电流J0e10fA/cm2

10.根据权利要求1所述的太阳能电池片,其特征在于:所述正面介质层为氮化硅层、氧化铝层、氧化硅层、氮氧化硅层。

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