[实用新型]一种铜蚀刻液的上料系统有效
| 申请号: | 202022897051.2 | 申请日: | 2020-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN214810604U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
| 发明(设计)人: | 浦陈龙;丁磊;顾维达;顾洪卫;顾维忠;朱永刚 | 申请(专利权)人: | 四川江化微电子材料有限公司 |
| 主分类号: | B01F15/04 | 分类号: | B01F15/04;B01F15/00;B01F15/02 |
| 代理公司: | 无锡义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 | 代理人: | 陈巧云 |
| 地址: | 612700 四川省眉*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 蚀刻 系统 | ||
本实用新型公开了一种铜蚀刻液的上料系统,包括若干原料储存罐、若干上料罐和混合罐,混合罐的出口通过管路依次连接第一磁力泵、过滤装置和成品罐;所述混合罐的罐体侧边设有称量模块;若干所述上料罐的出口分别通过并联的管路与混合罐的入口连接,若干所述原料储存罐的出口分别通过管路与一一对应的上料罐的入口连接,所述上料罐的下端分别设有电子U形称。本实用新型的上料罐和混合罐之间具有单独进料的管路,减少了共用原料进料管路对下一个原料进料精度的影响;并且在混合罐上还设有用于校对的称量模块,进一步控制了各组分原料的进料精度和总进料量的控制和监控,进一步提高了铜蚀刻液的生产效率和品质。
技术领域
本实用新型涉及化工设备技术领域,具体涉及一种铜蚀刻液的上料系统。
背景技术
铜蚀刻液在生产过程中,需要控制铜蚀刻液原料的各项指标,因此通常需要对原料的用料进行精确控制。现有的铜蚀刻液通常是在混合罐内进行混合生产而成,然后进行过滤才能灌装至成品罐内,但是,现有的混合罐的上料管路一般都是共用管路,因此,在上一个原料上料完成后,管路从残留的上一个原料,就会影响下一个原料的上料量,从而导致铜蚀刻液的生产原料的量控制不精确,从而导致铜蚀刻液中各组分的含量浓度具有误差,达不到所需要的标准,降低了铜蚀刻液的品质。
实用新型内容
本实用新型的目的在于,克服现有技术中存在的缺陷,提供一种结构简单、能够精确控制铜蚀刻液中各组分原料的上料精度的铜蚀刻液的上料系统。
为实现上述目的,本实用新型的技术方案是设计一种铜蚀刻液的上料系统,包括若干原料储存罐、若干上料罐和混合罐,混合罐的出口通过管路依次连接第一磁力泵、过滤装置和成品罐;所述混合罐的罐体侧边设有称量模块;若干所述上料罐的出口分别通过并联的管路与混合罐的入口连接,若干所述原料储存罐的出口分别通过管路与一一对应的上料罐的入口连接,所述上料罐的下端分别设有电子U形称。上料罐和混合罐之间的进料管路由共用改成各种组分单独进料,减少了共用原料进料管路对下一个原料进料精度的影响;同时,各组分原料在进料前分别进行称量进料,保证了个组分原料进料的量足够,并且在混合罐上还设有用于校对的称量模块,进一步控制了各组分原料的进料精度和总进料量的控制和监控,进一步提高了铜蚀刻液的生产效率和品质。
优选的技术方案为,所述上料罐的出口和所述混合罐的入口之间的管路上还分别设有第一调节阀、第二磁力泵。
进一步优选的技术方案为,所述称重模块、所述电子U形称分别与PLC控制系统电连接;所述原料储存罐和所述上料罐之间还设有第二调节阀、第三磁力泵,所述电子U形称与第二调节阀电连接。称重模块和电子U形称均与PLC控制系统电连接,能够实时监控原料的上料量,当上料罐内的原料达到所需要的量时,PLC控制系统控制第二调节阀自动关闭,停止原料储存罐向上料罐内注入原料,然后打开第一调节阀,开始将上料罐内的原料向混合罐内加料,减少人工观察称量原料的量,提高上料系统的自动化程度,提高工作效率。
为了进一步提高原料上料精度的控制,进一步优选的技术方案为,所述电子U形称的称量精度为0.1kg,所述称重模块的称量精度为1kg。
为了提高混合罐内的铜蚀刻液的混合均匀程度,进一步优选的技术方案为,所述第一磁力泵的出口和混合罐的入口之间还设有第一循环管路,第一循环管路上设有第三调节阀。
进一步优选的技术方案为,所述混合罐的出口设有分管器,所述分管器连接有至少两根分支管路,每根所述分支管路上均依次连接有第四调节阀、过滤装置,每个所述过滤装置均包括至少两个过滤器,至少两个过滤器的过滤孔径逐渐降低。混合罐的出口设置分管器,分管器将混合罐的出口分成数个支路,每一个支路分别设置过滤装置,便于混合罐的过滤装置的维修保养,在维修保养期间可以切换过滤管路,从而继续进行过滤作业,进行按时灌装,不会降低生产效率,按时完成生产任务。
进一步优选的技术方案为,所述过滤装置的出口和混合罐的入口之间还设有第二循环管路,第二循环管路上设有第五调节阀。
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