[实用新型]一种铜蚀刻液的上料系统有效

专利信息
申请号: 202022897051.2 申请日: 2020-12-03
公开(公告)号: CN214810604U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 浦陈龙;丁磊;顾维达;顾洪卫;顾维忠;朱永刚 申请(专利权)人: 四川江化微电子材料有限公司
主分类号: B01F15/04 分类号: B01F15/04;B01F15/00;B01F15/02
代理公司: 无锡义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 代理人: 陈巧云
地址: 612700 四川省眉*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 蚀刻 系统
【权利要求书】:

1.一种铜蚀刻液的上料系统,其特征在于,包括若干原料储存罐、若干上料罐和混合罐,混合罐的出口通过管路依次连接第一磁力泵、过滤装置和成品罐;所述混合罐的罐体侧边设有称量模块;若干所述上料罐的出口分别通过并联的管路与混合罐的入口连接,若干所述原料储存罐的出口分别通过管路与一一对应的上料罐的入口连接,所述上料罐的下端分别设有电子U形称。

2.根据权利要求1所述的铜蚀刻液的上料系统,其特征在于,所述上料罐的出口和所述混合罐的入口之间的管路上还分别设有第一调节阀、第二磁力泵。

3.根据权利要求2所述的铜蚀刻液的上料系统,其特征在于,所述称量模块、所述电子U形称分别与PLC控制系统电连接;所述原料储存罐和所述上料罐之间还设有第二调节阀、第三磁力泵,所述电子U形称与第二调节阀电连接。

4.根据权利要求3所述的铜蚀刻液的上料系统,其特征在于,所述第一磁力泵的出口和混合罐的入口之间还设有第一循环管路,第一循环管路上设有第三调节阀。

5.根据权利要求4所述的铜蚀刻液的上料系统,其特征在于,所述混合罐的出口设有分管器,所述分管器连接有至少两根分支管路,每根所述分支管路上均依次连接有第四调节阀、过滤装置,每个所述过滤装置均包括至少两个过滤器,至少两个过滤器的过滤孔径逐渐降低。

6.根据权利要求5所述的铜蚀刻液的上料系统,其特征在于,所述过滤装置的出口和混合罐的入口之间还设有第二循环管路,第二循环管路上设有第五调节阀。

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