[实用新型]半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具

说明书

本实用新型涉及机械技术领域。半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，包括一支撑架，支撑架包括一支撑面板，支撑面板的上表面用于支撑待浸泡工件，支撑面板呈圆环形；支撑架还包括至少三个周向排布的支撑脚，支撑脚固定在支撑面板的外边缘，支撑脚的顶部设有向上延伸的突起，突起高于支撑面板的上表面；支撑脚的底部开设有用于嵌入突起的插槽。本专利通过优化洗净浸泡治具，便于实现铝部件的浸泡，相对于传统的平铺浸泡大大增加了单次的洗净工件数。加快了生产效率。

技术领域

本实用新型涉及机械技术领域，具体是洗净浸泡治具。

背景技术

半导体生产设备比如喷淋部件在长期使用中，喷淋头(结构参见图1)等铝部件的表面会产生膜质材料，需要定期对铝部件进行清洗浸泡。

对铝部件进行洗净作业，很多的工艺上都有化学药剂浸泡这一步，不仅因为化学浸泡对很多铝部件表面的膜质有很好的反应去除效果，而且化学药剂浸泡去膜的效率会远远高于物理等其他的去膜方式。铝部件在浸泡槽中不可以相互堆叠，所以一个浸泡槽中同时浸泡的部件数量有限，这样也就限制了去膜的效率。

目前缺乏解决现有浸泡池浸泡部件数量有限的治具。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型提供半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，以解决以上至少一个技术问题。

为了达到上述目的，本实用新型提供了半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于，包括一支撑架，所述支撑架包括一支撑面板，所述支撑面板的上表面用于支撑待浸泡工件，所述支撑面板呈圆环形；

所述支撑架还包括至少三个周向排布的支撑脚，所述支撑脚固定在所述支撑面板的外边缘，所述支撑脚的顶部设有向上延伸的突起，所述突起高于所述支撑面板的上表面；

所述支撑脚的底部开设有用于嵌入所述突起的插槽。

本专利通过优化洗净浸泡治具，便于实现铝部件的浸泡，相对于传统的平铺浸泡大大增加了单次的洗净工件数。加快了生产效率。

进一步优选的，所述突起呈弧形突起。

进一步优选的，所述突起的横截面呈长方形。

避免支撑架的扭转。

进一步优选的，两个支撑架上下堆叠时，位于上方的支撑架的支撑脚与位于下方的支撑架的支撑脚旋转卡接。

便于实现两个支撑架的同步运动。

进一步优选的，所述突起包括弧形定位主体以及弧形定位主体的内侧向内延伸的限位块；

所述插槽包括用于引导弧形定位主体周向转动的定位部以及用于引导限位块周向转动的弧形引导部，所述定位部周向上的两端均向外导通，所述定位部与所述弧形引导部导通。

便于实现两个支撑架的旋转卡接。

进一步优选的，所述支撑面板上设有向上延伸的弧形突起，以所述弧形突起的内侧区域为用于摆放待浸泡工件的摆放区域。

便于待浸泡工件摆放区域的限位。通过弧形突起还可以提高支撑面板的支撑强度。

进一步优选的，两个支撑架上下堆叠时，位于上方的支撑架的支撑脚与位于下方的支撑架的支撑脚之间存有用于待浸泡工件外边缘轴向限位的间隙。

便于实现待浸泡工件外边缘的限位，减少晃动。

进一步优选的，所述支撑架的材质是聚丙烯。可以耐强酸碱，让铝部件接触的部位全部都是塑料材质，模拟了之前平铺在浸泡槽中的使用环境，可提高了治具的强度和治具的使用寿命。

进一步优选的，所述支撑面板上开设有渗水孔。