[实用新型]半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具有效
| 申请号： | 202022862827.7 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN214263143U | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 王云鹏;贺贤汉;周毅;王成明 | 申请（专利权）人： | 上海富乐德智能科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;B08B3/04 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 赵建敏 |
| 地址： | 200444 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半导体 生产 设备 喷淋 部件 洗净 浸泡 | ||
1.半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于，包括一支撑架，所述支撑架包括一支撑面板，所述支撑面板的上表面用于支撑待浸泡工件，所述支撑面板呈圆环形；
所述支撑架还包括至少三个周向排布的支撑脚，所述支撑脚固定在所述支撑面板的外边缘，所述支撑脚的顶部设有向上延伸的突起，所述突起高于所述支撑面板的上表面；
所述支撑脚的底部开设有用于嵌入所述突起的插槽。
2.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述突起的横截面呈长方形。
3.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：两个支撑架上下堆叠时，位于上方的支撑架的支撑脚与位于下方的支撑架的支撑脚旋转卡接。
4.根据权利要求3所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述突起包括弧形定位主体以及弧形定位主体的内侧向内延伸的限位块；
所述插槽包括用于引导弧形定位主体周向转动的定位部以及用于引导限位块周向转动的弧形引导部，所述定位部周向上的两端均向外导通，所述定位部与所述弧形引导部导通。
5.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述支撑面板上设有向上延伸的弧形突起，以所述弧形突起的内侧区域为用于摆放待浸泡工件的摆放区域。
6.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：两个支撑架上下堆叠时，位于上方的支撑架的支撑脚与位于下方的支撑架的支撑脚之间存有用于待浸泡工件外边缘轴向限位的间隙。
7.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述支撑架的材质是聚丙烯。
8.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述支撑面板上开设有渗水孔。
9.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述支撑面板的内径与外径的差值为1cm-2cm。
10.根据权利要求1所述的半导体生产设备的喷淋部件的洗净浸泡治具，其特征在于：所述支撑脚是一可伸缩的支撑脚，所述支撑脚包括一螺纹连接的内管以及外管，所述外管的顶部固定有所述突起，所述外管与所述支撑面板固定连接；
所述内管的底部固定连接有一支撑块，所述支撑块上开设有所述插槽；
所述内管以及所述外管上均设有一竖直设置的基准线，
当内管上的基准线与外管上的基准线对位时，突起与插槽上下对位。
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