[实用新型]一种高稳定性双温区大容积炉源装置

说明书

本实用新型公开了一种高稳定性双温区大容积炉源装置，包括用于与腔体连接的真空法兰，真空法兰的一侧设置有多个热电偶馈通，真空法兰的另一侧通过支撑杆固定有支撑圆盘，支撑圆盘的上方固定有中空的外筒，外筒的内壁设置有下温区加热组件和上温区加热组件，加热组件包括多个固定片、设置在固定片上的方槽以及插接在方槽内的加热板，外筒的内部设置有坩埚，且下温区加热组件和上温区加热组件分别位于坩埚外表面的下部和上部，支撑圆盘上设置有上温区热电偶和下温区热电偶。本实用新型在加热区域采用多个固定片对整个加热板进行固定，可以得到更好的真空；结构简单，减少因为零件损坏而产生更换几率；固定片上设置的方槽使得加热板的安装更加简单。

技术领域

本实用新型属于炉源装置技术领域，具体涉及一种高稳定性双温区大容积炉源装置。

背景技术

高稳定性双温区大容积蒸发源是使用在真空镀膜设备中的部件，把坩埚内部装载的材料加热到适当的温度，使其原子或分子获得足够的能量，脱离材料表面的束缚而蒸发到真空中成为原子或分子，它以直线喷射到基片表面并沉积，形成高质量薄膜。大容积蒸发源可以由PID精准控制，并通过热偶提供温度反馈，保证束流稳定性，均匀性，可重复性。

现有技术利用的是金属片热辐射的热量来加热坩埚内材料，使得其蒸发成原子或分子。现有技术加热区域由加热片、固定片、钽固定环、金属丝、隔热片等组成，使用的零件繁多，达200多件。组成的零件数量越多，零件放气量越多，不易取得镀膜所需的真空。零件数量多，且零件尺寸小，导致蒸发源零件加工难度高，加工成本高。众多零件均使用金属丝穿插缠绕的方式固定，组装工序复杂、费时，维护困难，给使用带来不便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高稳定性双温区大容积炉源装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种高稳定性双温区大容积炉源装置，包括用于与腔体连接的真空法兰，所述真空法兰的一侧设置有多个热电偶馈通，所述真空法兰的另一侧通过支撑杆固定有支撑圆盘，所述支撑圆盘的上方固定有中空的外筒，且外筒的两端均设置为开口。

所述外筒的内壁设置有下温区加热组件和上温区加热组件，所述下温区加热组件和上温区加热组件均包括多个固定片，其固定片区别于现有技术的200多个零件，为整个一体式的固定片。设置在固定片上的方槽以及插接在方槽内的加热板。

所述外筒的内部设置有坩埚，且下温区加热组件和上温区加热组件分别位于坩埚外表面的下部和上部。

所述支撑圆盘的上设置有上温区热电偶和下温区热电偶，所述上温区热电偶的测温头位于上温区加热组件处，所述下温区热电偶的测温头位于下温区加热组件处。

优选的是，所述加热板为一个加热片连续弯曲组成。

上述任一方案中优选的是，所述固定片为一体式固定片。

上述任一方案中优选的是，所述方槽的宽度不小于两个加热片的宽度。

上述任一方案中优选的是，所述真空法兰的表面设置有螺栓孔，通过螺栓将真空法兰与腔体固定连接。

上述任一方案中优选的是，所述热电偶馈通设置为4个，4个所述热电偶馈通等列分布在真空法兰的一侧。

上述任一方案中优选的是，所述坩埚的顶部设置为向外延伸的圆环，且圆环直径的不小于固定片的直径。

上述任一方案中优选的是，所述下温区加热组件和上温区加热组件结构相同，且上温区加热组件的直径大于下温区加热组件的直径。

本实用新型的技术效果和优点：该高稳定性双温区大容积炉源装置在加热区域采用多个固定片对整个加热片进行固定，组成的零件数量少，零件放气量少，可以得到更好的真空；结构简单，减少因为零件损坏而产生更换几率；固定片上所设置的方槽使得加热板的安装更加简单、牢固，方便使用。

附图说明