[实用新型]气密性检测装置有效
申请号: | 202022812292.2 | 申请日: | 2020-11-27 |
公开(公告)号: | CN214121522U | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 梁国泰;黄宇彬;童培云;朱刘;何坤鹏 | 申请(专利权)人: | 先导薄膜材料(广东)有限公司 |
主分类号: | G01M3/20 | 分类号: | G01M3/20 |
代理公司: | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 张向琨 |
地址: | 511517 广东省清*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气密性 检测 装置 | ||
本公开提供了一种气密性检测装置,其用于对靶材组件进行气密性检测,所述气密性检测装置包括:支撑板,所述靶材组件密封设置于所述支撑板的上方,并与所述支撑板形成腔体,所述支撑板设有与所述腔体连通的通孔;气体提供装置,用于向所述靶材组件背离所述腔体的一侧释放检测气体;气体检测装置,所述气体检测装置的一端连通所述通孔,以对所述腔体内的气体进行检测。本公开的气密性检测装置能够将腔体内的气体抽出并进行检测,从而对靶材组件的气密性进行有效地检测,保证了用于溅射的靶材组件在溅射过程中具有良好的气密性。
技术领域
本公开涉及半导体制造领域,尤其涉及一种气密性检测装置。
背景技术
在磁控溅射过程中,靶材组件是一种常用的物料,靶材组件由靶材和背板焊接在一起而成。焊接形成的靶材组件可能会在焊接面形成贯通的孔洞,这种孔洞会影响靶材组件溅射过程中的气密性,进而影响靶材组件的溅射速率、溅射的均匀性以及成膜质量。
实用新型内容
鉴于背景技术中存在的问题,本公开的目的在于提供一种气密性检测装置,其能够检测靶材组件的气密性,保证靶材组件在使用过程中具有良好的气密性。
为了实现上述目的,本公开提供了一种气密性检测装置,用于对靶材组件进行气密性检测,所述气密性检测装置包括:支撑板,所述靶材组件密封设置于所述支撑板的上方,并与所述支撑板形成腔体,所述支撑板设有与所述腔体连通的通孔;气体提供装置,用于向所述靶材组件背离所述腔体的一侧释放检测气体;气体检测装置,所述气体检测装置的一端连通所述通孔,以对所述腔体内的气体进行检测。
在一实施例中,所述气密性检测装置还包括密封垫,所述支撑板还设有由所述支撑板的上表面向下凹入的固定槽,所述固定槽与所述通孔连通,所述密封垫固定于所述固定槽中且上端突出于所述固定槽,所述靶材组件与所述密封垫的上表面密封接触。
在一实施例中,气体检测装置包括真空泵和检测仪,所述真空泵连接于所述通孔与所述检测仪之间。
在一实施例中,气体检测装置还包括连接接头和气管,所述连接接头具有第一接口和与所述第一接口连通的第二接口,所述第一接口固定于所述通孔并与所述固定槽连通;所述气管连接所述第二接口与所述真空泵以及所述真空泵与检测仪。
在一实施例中,所述连接接头还具有与所述第一接口连通的第三接口;气体检测装置还包括泄压阀,所述泄压阀连接于所述第三接口。
在一实施例中,所述气密性检测装置还包括罩体,所述罩体设置于所述支撑板的上表面并与所述支撑板的上表面围成收容空间,所述罩体设有将气体提供装置与收容空间连通的开口。
在一实施例中,所述气密性检测台还包括地脚,所述地脚从下方支撑所述支撑板。
在一实施例中,气体检测装置为氦质谱仪。
在一实施例中,所述支撑板为法兰盖。
在一实施例中,所述法兰盖的公称压力为1.0MPa。
本公开的有益效果如下:在根据本公开的气密性检测装置中,支撑板与靶材组件形成封闭的腔体,气体提供装置向腔体的外侧提供检测气体,气体检测装置的一端连通通孔,能够将腔体内的气体抽出并进行检测,从而实现了对靶材组件的气密性进行有效地检测,保证了用于溅射的靶材组件在溅射过程中具有良好的气密性。
附图说明
图1是根据本公开的气密性检测装置的部分组成构件的立体图。
图2是图1的另一角度的视图。
图3是根据本公开的气密性检测装置的部分组成构件的剖视图。
其中,附图标记说明如下:
1支撑板 332第二接口
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