[实用新型]晶圆背面清洗装置有效

专利信息
申请号: 202022807121.0 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN214099590U 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 许忠晖;王东铭;陈嘉勇;杨昱霖 申请(专利权)人: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李宁
地址: 250101 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 背面 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种晶圆背面清洗装置,包括清洗室(1),其特征在于,所述清洗室(1)内设置有一旋转件(6),所述旋转件(6)的中部为能够全部露出晶圆(5)背部的待清洗区域的镂空部,所述旋转件(6)的上表面设置有用于承托并夹紧晶圆(5)边缘的卡盘销(3);

所述旋转件(6)的下方至少设置有一组间隔分布且用于喷射清洗剂的喷嘴(4),同一组所述喷嘴(4)的连线在所述晶圆(5)背部的投影过所述晶圆(5)的旋转中心,且所述投影至少有一端抵达所述晶圆(5)背部的待清洗区域的边缘。

2.根据权利要求1所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,同一组所述喷嘴(4)的连线为直线。

3.根据权利要求1所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述旋转件(6)的下方还固定设置有一安装盘(2),所述喷嘴(4)固定设置在所述安装盘(2)上。

4.根据权利要求3所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述安装盘(2)呈圆形,且所述安装盘(2)的圆心与所述晶圆(5)的旋转中心位于同一铅垂线上,同一组所述喷嘴(4)沿所述安装盘(2)的径向分布。

5.根据权利要求4所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述安装盘(2)上设置有多组所述喷嘴(4)。

6.根据权利要求4所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述旋转件(6)为与所述安装盘(2)同心设置的旋转圆环,且所述安装盘(2)嵌设于所述旋转圆环的镂空部内。

7.根据权利要求3所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述旋转件(6)的下方设置有一支撑柱(8),所述安装盘(2)固定安装于所述支撑柱(8)的顶部;所述支撑柱(8)内设置有用于为所述喷嘴(4)提供清洗剂的供液管路(9)。

8.根据权利要求7所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述卡盘销(3)包括多个,且所述卡盘销(3)沿圆周方向间隔分布,相邻两个所述卡盘销(3)之间的间隔称为销间隔,所述支撑柱(8)的外壁与所述清洗室(1)的内壁之间的间隔构成壁间隔,所述销间隔与所述壁间隔共同构成用于排出清洗剂的废液排出通道(10)。

9.根据权利要求1所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述旋转件(6)的上方还设置有清洗罩,所述清洗罩上设置有供大气进入所述清洗室的开口(7)。

10.根据权利要求1所述的晶圆背面清洗装置,其特征在于,所述喷嘴(4)由聚四氟乙烯制造而成。

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