[实用新型]一种磁控溅射设备用样品固定辅助工装

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射设备用样品固定辅助工装，属于磁控溅射设备技术领域，其特征在于，至少包括：长度为a的水平板；固定于水平板一端的左侧翘板；固定于水平板另一端的右侧翘板；其中：所述左侧翘板和右侧翘板的长度均为b；且所述左侧翘板和右侧翘板位于水平板的同一侧，三者为共面关系，所述左侧翘板和水平板之间的夹角为135度，所述右侧翘板和水平板之间的夹角为135度；在所述左侧翘板和右侧翘板的中心分别开设有一个4mm直径的螺丝孔，所述左侧翘板、水平板和右侧翘板为一体成型结构，所述左侧翘板、水平板和右侧翘板为不锈钢制成。通过采用上述技术方案，本实用新型具有固定不同高度样品的功能。

技术领域

本实用新型属于磁控溅射设备技术领域，具体涉及一种磁控溅射设备用样品固定辅助工装。

背景技术

众所周知，磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

在磁控溅射设备中，需要将样品固定在载片盘上进行生长薄膜，但由于部分样品具有一定的高度，无法利用常规的夹具固定样品。

实用新型内容

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题，提供一种磁控溅射设备用样品固定辅助工装，可以将样品固定在一定高度进行处理。

本实用新型的目的是提供一种磁控溅射设备用样品固定辅助工装，至少包括：

长度为a的水平板；

固定于水平板一端的左侧翘板；

固定于水平板另一端的右侧翘板；其中：

所述左侧翘板和右侧翘板的长度均为b；且所述左侧翘板和右侧翘板位于水平板的同一侧，三者为共面关系，所述左侧翘板和水平板之间的夹角为135度，所述右侧翘板和水平板之间的夹角为135度。

在所述左侧翘板和右侧翘板的中心分别开设有一个4mm直径的螺丝孔。

优选地，a等于21mm，b等于9.9mm。

优选地，所述水平板的厚度和宽度依次为1.5mm、7mm。

优选地，所述左侧翘板和右侧翘板的厚度和宽度依次为1.07mm、7mm。

优选地，所述左侧翘板、水平板和右侧翘板为一体成型结构。

优选地，所述左侧翘板、水平板和右侧翘板为不锈钢制成。

本实用新型具有的优点和积极效果是：

本申请通过采用上述技术方案，本实用新型实现了样品的高度调整，能够将样品固定在一定高度进行处理，即具有固定不同高度样品的功能。

附图说明

图1是本实用新型优选实例的使用状态图；

图2是本实用新型优选实例的俯视图；

图3是本实用新型优选实例的主视图。

其中：1、样品盘；2、固定螺栓A；3、固定螺栓B；4、样品；5、固定螺栓C；6、固定螺栓D；7、水平板；8、左侧翘板；9、右侧翘板。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下：