[实用新型]一种镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种镀膜装置，包括镀膜室，镀膜室内设有镀膜辊和位于镀膜辊下方的若干个磁控溅射靶，镀膜室内还设有清洁机构，清洁机构包括毛刷辊、刮刀、第一清洁辊和第二清洁辊，毛刷辊设置在镀膜辊上方并与镀膜辊接触，毛刷辊的一侧设有刮刀及第一清洁辊，所述毛刷辊的另一侧设有所述第二清洁辊，所述刮刀的刀锋贴近所述镀膜辊设置，所述第一清洁辊和第二清洁辊上均套设有硅胶粘层，所述第一清洁辊和所述第二清洁辊分别通过所述硅胶粘层与所述镀膜辊滚动接触，其中，所述第一清洁辊靠近所述刮刀的刀锋处设置。本镀膜装置具有能够清洁镀膜辊表面的清洁机构，能够有效地提高镀膜质量；可由现有的镀膜装置改造获得，推广应用成本低。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种镀膜装置。

背景技术

磁控溅射卷绕镀膜设备是利用磁控溅射镀膜技术(在真空环境下，利用等离子体放电产生的正离子，轰击处于负电位的靶材，溅射出靶材原子)，通过卷对卷的生产方式，在柔性基材表面沉积金属、合金、半导体、介质化合物等单层或多层纳米材料。

镀膜装置(指代磁控溅射卷绕镀膜设备)包括依次连通的放卷室、镀膜室和收卷室，放卷室内设有放卷辊，镀膜室内设有镀膜辊和布置在镀膜辊下方的若干个磁控溅射靶，收卷室内设有收卷辊。

磁控溅射沉积成膜过程中，要求柔性基材与镀膜辊接触良好，当镀膜辊表面有颗粒物时，基材被颗粒支撑起，镀膜辊难以带走柔性基材的热量，基材受热变形，形成质量缺陷。通常镀膜辊表面尘粒的来源有：柔性基材本身夹带的颗粒；镀膜辊本身没有清理干净；磁控溅射卷绕镀膜在抽真空阶段，由于气流的冲击，真空室内的灰尘飘落到镀膜辊表面，对镀膜的质量产生影响。所以镀膜辊表面的清洁状态直接影响着镀膜的质量。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种镀膜质量好的镀膜装置。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种镀膜装置，包括镀膜室，所述镀膜室内设有镀膜辊和位于所述镀膜辊下方的若干个磁控溅射靶，所述镀膜室内还设有清洁机构，所述清洁机构包括毛刷辊、刮刀、第一清洁辊和第二清洁辊，所述毛刷辊设置在镀膜辊上方并与所述镀膜辊接触，所述毛刷辊的一侧设有所述刮刀及所述第一清洁辊，所述毛刷辊的另一侧设有所述第二清洁辊，所述刮刀的刀锋贴近所述镀膜辊设置，所述第一清洁辊和第二清洁辊上均套设有硅胶粘层，所述第一清洁辊和所述第二清洁辊分别通过所述硅胶粘层与所述镀膜辊滚动接触，其中，所述第一清洁辊靠近所述刮刀的刀锋处设置。

进一步的，所述清洁机构还包括第一胶纸卷辊和第二胶纸卷辊，所述第一胶纸卷辊设于所述第一清洁辊上方并与所述第一清洁辊滚动接触，所述第二胶纸卷辊设于所述第二清洁辊的上方并与所述第二清洁辊滚动接触，所述第一胶纸卷辊和第二胶纸卷辊上均套设有粘尘纸卷。

进一步的，所述毛刷辊上设置有多条毛刷，所述毛刷辊通过所述毛刷接触所述镀膜辊。

进一步的，还包括用于驱动所述毛刷辊转动的驱动电机，所述毛刷辊的转动方向与所述镀膜辊的转动方向相同。

进一步的，还包括设于所述镀膜室内的防护罩，所述清洁机构安装于所述防护罩内。

进一步的，所述防护罩内设有真空吸嘴。

进一步的，所述镀膜室内还设有第一导辊。

进一步的，还包括放卷室和收卷室，所述放卷室与所述镀膜室通过第一狭缝连通，所述收卷室与所述镀膜室通过第二狭缝连通。

进一步的，所述放卷室内设有放卷辊，所述收卷室内设有收卷辊。

进一步的，所述放卷室内和所述收卷室内分别设有第二导辊。