[实用新型]一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备

说明书

本实用新型公开一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室，真空室中包括有膜导向机构，蒸发器及挡板驱动机构，于蒸发器上方为左右对向设置的旋转挡板，挡板驱动机构通过转轴驱动旋转挡板旋转，所述膜导向机构引导基材依次经过等离子发射器、蒸发器，旋转挡板内部中空，旋转挡板中空部分设置有若干纵横交错呈网格状的加强筋，还包括分别位于横向布置的加强筋上下方的水管，所述旋转挡板端部具有台阶位，两左右对向设置的旋转挡板的台阶位能够相互契合衔接。本实用新型在镀铝前采用等离子处理，提高膜表面张力，结合双面结构化的旋转挡板，在保证产品质量的同时，提高设备的稳定性。

技术领域

本实用新型属于真空镀铝设备技术领域，尤其涉及一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备。

背景技术

真空镀铝设备是在纸质或塑料材质薄膜上均匀镀上一层铝的设备。主要是在真空室内，借助蒸发器使蒸镀材料蒸发，被蒸发的材料在真空室内自由运动，当蒸发材料接触某个表面，例如被镀薄膜卷材基材时，就会冷却形成镀层。

真空镀铝薄膜是在真空状态下将高纯度的铝线在蒸发器加热气化后附着在基材薄膜表面所制成的薄膜。真空镀铝薄膜具有氧气、水蒸气阻隔性能高、光泽度高、光阻隔等特点。由于现有技术所生产的镀铝薄膜镀铝层与基材薄膜之间只是简单的物理附着，因此镀铝层在基材薄膜表面的附着力较低只有1.5N/15mm以下，这样会导致镀铝薄膜与其它薄膜进行干式复合时镀铝层容易发生转移，剥离强度低，从而导致包装制袋后发生分层或封口强度差等不良；BOPET镀铝膜与卡纸湿式复合后，进行各种类型的印刷后制成各种包装彩盒，制盒过程常常由于铝层附着力问题造成油墨、铝层与薄膜分离脱墨等不良；给制袋、制盒的产品质量造成严重影响和效益的下降。在蒸发器工作初期，蒸发材料尚未处于所要求稳定蒸发状态，蒸发器温度很高，离镀铝卷材比较近，此时软绕系统尚未开启工作，所以，必须用挡板隔离隔离铝蒸发材料与镀铝薄膜。另外，在蒸镀结束后，由于同样的原因，也必须用挡板隔离隔离铝蒸发材料与镀铝薄膜。在整个过程中，会存在如下这样的问题：由于蒸发器温度很高(最高大约1550℃)，挡板位于蒸发器正上方，使得挡板会因热变形，向下方拱起；而为保证蒸发材料不会过多的从蒸发器溢出，挡板与蒸发器上轨距离很近 (小于1cm)；这样导致在挡板的遮挡过程中，会有大量铝蒸发材料附着在挡板下方，造成挡板在薄膜镀铝开始前需要移开时，卡住，无法移开。但现有技术中的挡板无法解决上述的问题。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，利用等离子处理基材，提高膜表面张力，有利于提高铝层在膜表面的附着力，保证设备稳定及产品质量。

为解决上述的技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

本实用新型为一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室，真空室中包括有膜导向机构，蒸发器及挡板驱动机构，于蒸发器上方为左右对向设置的旋转挡板，挡板驱动机构通过转轴驱动旋转挡板旋转，所述膜导向机构引导基材依次经过等离子发射器、蒸发器，旋转挡板内部中空，旋转挡板中空部分设置有若干纵横交错呈网格状的加强筋，还包括分别位于横向布置的加强筋上下方的水管，所述旋转挡板端部具有台阶位，两左右对向设置的旋转挡板的台阶位能够相互契合衔接。

本实用新型的旋转挡板厚度为8-10cm，旋转挡板内部中空且中空位置厚度为4-5cm。

本实用新型的水管直径为16mm。

本实用新型的水管在若干纵向布置的加强筋中呈蛇形布置。

本实用新型的水管两端部贯穿旋转挡板的两侧分别为进水头与出水头。

本实用新型的等离子发射器中采用的气体介质为氩气和氧气的混合气体。

本实用新型的有益效果为：