[实用新型]一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备

权利要求书

1.一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室（4），真空室（4）中包括有膜导向机构（5），蒸发器（1）及挡板驱动机构，于蒸发器（1）上方为左右对向设置的旋转挡板（2），挡板驱动机构通过转轴（8）驱动旋转挡板（2）旋转，其特征在于：所述膜导向机构（5）引导基材依次经过等离子发射器（6）、蒸发器（1），旋转挡板（2）内部中空，旋转挡板（2）中空部分设置有若干纵横交错呈网格状的加强筋，还包括分别位于横向布置的加强筋上下方的水管（3），所述旋转挡板（2）端部具有台阶位（21），两左右对向设置的旋转挡板（2）的台阶位（21）能够相互契合衔接。

2.根据权利要求1所述的一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，其特征在于：所述旋转挡板（2）厚度为8-10cm，旋转挡板（2）内部中空且中空位置厚度为4-5cm。

3.根据权利要求1所述的一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，其特征在于：所述水管（3）直径为16mm。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，其特征在于：所述水管（3）在若干纵向布置的加强筋中呈蛇形布置。

5.根据权利要求4所述的一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，其特征在于：所述水管（3）两端部贯穿旋转挡板（2）的两侧分别为进水头（31）与出水头（32）。