[实用新型]一种提高均匀性的研磨盘

权利要求书

1.一种提高均匀性的研磨盘，其特征在于：包括均为环形结构的上研磨盘、下研磨盘和研磨槽，上研磨盘分为上层结构和下层结构，上层结构和下层结构均分为四个相同的扇形结构，上层结构中的每个扇形结构有多个导入通道，上层结构和下层结构中间留有研磨液从上层结构流入下层结构的中空结构，下层结构中从内圈一定位置处到外圈均匀的设有若干个第一同心圆沟槽，下层结构中的扇形结构在第一同心圆沟槽上均设有固定间距的多个第一竖直沟槽且第一竖直沟槽与第一同心圆沟槽配合形成覆盖整个下层结构的第一网格沟槽，相邻的两个扇形结构中的第一竖直沟槽排列角度垂直，下研磨盘从内圈一定位置处到外圈均匀设有若干个第二同心圆沟槽，下研磨盘上设有固定角度的多个第二竖直沟槽且第二竖直沟槽与第二同心圆沟槽配合形成覆盖整个下研磨盘的第二网格沟槽，上研磨盘上方固定连接有研磨机压力块，研磨机压力块上安装有研磨液系统，研磨液系统上设置有多个导入管，上研磨盘中的上层结构中的多个导入通道与研磨液的多个导入管固定连接，下研磨盘活动设置在研磨槽内，研磨槽中心固定安装有直径小于下研磨盘内圈直径的电机，电机输出轴固定连接有中心轴，中心轴上固定连接有中心齿轮且中心齿轮活动设置于下研磨盘上，研磨槽和下研磨盘之间嵌入设置有内齿轮，内齿轮与中心齿轮中间啮合有转动齿轮，转动齿轮中设有固定晶片的夹具。

2.根据权利要求1所述的一种提高均匀性的研磨盘，其特征在于：所述上研磨盘和下研磨盘的尺寸相同。

3.根据权利要求2所述的一种提高均匀性的研磨盘，其特征在于：所述上层结构中每个扇形结构中的导入通道为六个，且其中每三个导入通道为一组呈扇形分布，两组扇形分布的扇形半径不一致。

4.根据权利要求3所述的一种提高均匀性的研磨盘，其特征在于：所述导入管的数量为二十四个。

5.根据权利要求4所述的一种提高均匀性的研磨盘，其特征在于：所述导入管的直径大于上层结构中导入通道的直径。

6.根据权利要求5所述的一种提高均匀性的研磨盘，其特征在于：所述下研磨盘上的第二同心圆沟槽数量多于下层结构中的第一同心圆沟槽数量。