[实用新型]低应力纵向抛光装置

说明书

本实用新型公开了一种低应力纵向抛光装置，包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。本实用新型的抛光装置通过摆臂摩擦抛光运动组件的设置，进而能够更优更平滑地对试样进行抛光，且采用上下旋转的摆臂，有效避免了试样在旋转时与砂带的接触，提高了抛光的效率和质量。

技术领域

本实用新型属于抛光装置领域，尤其涉及一种低应力纵向抛光装置。

背景技术

众所周知，材料的疲劳和断裂特性的测试是通过材料取样并加工成试样后进行的。因此从取样、试样加工到测试的每一阶段都存在着影响测试结果的干扰因素。特别是试样加工阶段，由于不同的加工方式对材料的损伤程度不同，试样的表层残留应力会有很大的变化。而表层残余应力的不同会影响疲劳和断裂特性测试的结果。因此国际航空制造业明确要求必须对疲劳和断裂测试试样进行低应力加工。

实用新型内容

实用新型目的：本实用新型的目的是提供一种能够更优更平滑地对试样进行均匀抛光的低应力纵向抛光装置。

技术方案：本实用新型的低应力纵向抛光装置，包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。

进一步说，该抛光装置还包括用于支撑摆臂摩擦抛光运动组件、并可水平滑动的第一支撑座，用于支撑尾座组件、并可水平滑动的第二支撑座，所述第一支撑座和第二支撑座通过底端连接丝杆实现水平运动。床头组件包括用于夹持试样的卡盘及驱动该卡盘转动的电机，尾座组件包括转动设于所述第二支撑座上、与卡盘位于同一中轴线上的顶针，通过卡盘和顶针的配合以实现试样的稳固夹持。

摆臂通过支撑架设于所述第一支撑座上，且该摆臂的一端通过电机驱动旋转，另一端设有限位挡块。优选的，限位挡块对称设于摆臂的两侧并固定连接于摆臂尾端的支撑架上，该限位挡块上开设有摆臂运动的槽口。

再进一步说，该抛光装置的砂带安装盘和砂带回收盘之间设有砂带支撑座，该砂带支撑座内贯穿设有支撑砂带的支撑圆棒，支撑圆棒上设有反馈砂带和支撑圆棒两者接触压力的压力传感器。砂带支撑座与砂带安装盘及砂带回收盘之间均设有定位导向轮。

更进一步说，该装置还包括该装置还包括设于砂带支撑座上端、用于控制所述接触压力的最大值处于标准要求范围内的两组限值弹簧。该装置还包括防护罩壳和设于该防护罩壳上的控制装置，该控制装置操控床头组件、尾座组件和摆臂摩擦抛光运动组件的运动。

有益效果：与现有技术相比，本实用新型的效果为：该抛光装置符合 CEP1TF79和NadcapAC7101/7标准要求，用于力学性能试样表面最终道低应力纵向抛光处理，其适用的试样种类包括低周疲劳试样、高频疲劳试样、持久蠕变试样、应力腐蚀试样、拉伸性能试样等等，适用的试样种类包括圆棒型、板状型。此外，该抛光装置通过摆臂摩擦抛光运动组件的设置，进而能够更优更平滑地对试样进行抛光，且采用上下旋转的摆臂，有效避免了试样在旋转时与砂带的接触，提高了抛光的效率和质量。

附图说明

图1为本实用新型摆臂摩擦抛光运动组件结构示意图；

图2为本实用新型摆臂摩擦抛光运动组件的主视图；

图3为本实用新型摆臂摩擦抛光运动组件的侧视图；

图4为本实用新型摆臂摩擦抛光运动组件的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步详细说明。