[实用新型]低应力纵向抛光装置

权利要求书

1.一种低应力纵向抛光装置，其特征在于：该抛光装置包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。

2.根据权利要求1所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：该抛光装置还包括用于支撑摆臂摩擦抛光运动组件、并可水平滑动的第一支撑座，用于支撑尾座组件、并可水平滑动的第二支撑座，所述第一支撑座和第二支撑座通过底端连接丝杆实现水平运动。

3.根据权利要求2所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：床头组件包括用于夹持试样的卡盘及驱动该卡盘转动的电机，尾座组件包括转动设于所述第二支撑座上、与卡盘位于同一中轴线上的顶针，通过卡盘和顶针的配合以实现试样的稳固夹持。

4.根据权利要求2所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：摆臂通过支撑架设于所述第一支撑座上，且该摆臂的一端通过电机驱动旋转，另一端设有限位挡块。

5.根据权利要求4所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：所述限位挡块对称设于摆臂的两侧并固定连接于摆臂尾端的支撑架上，该限位挡块上开设有摆臂运动的槽口。

6.根据权利要求1所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：所述砂带安装盘和砂带回收盘之间设有砂带支撑座，该砂带支撑座内贯穿设有支撑砂带的支撑圆棒，支撑圆棒上设有反馈砂带和支撑圆棒两者接触压力的压力传感器。

7.根据权利要求6所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：该装置还包括设于砂带支撑座上端、用于控制所述接触压力的最大值处于标准要求范围内的两组限值弹簧。

8.根据权利要求6所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：所述砂带支撑座与砂带安装盘及砂带回收盘之间均设有定位导向轮。

9.根据权利要求1所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：该装置还包括防护罩壳和设于该防护罩壳上的控制装置，该控制装置操控床头组件、尾座组件和摆臂摩擦抛光运动组件的运动。