[实用新型]一种双面抛光机湿式硅片储存器

权利要求书

1.一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于，包括：

暂存装置，用于暂存硅片；

滑轨装置，设置在所述暂存装置的一端，用于支撑所述硅片进行滑动；

硅片收集控制装置，设置在所述滑轨装置的一端，用于控制卡匣移动来收集所述硅片。

2.根据权利要求1所述的一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于：所述暂存装置包括暂存台和暂存位，所述暂存位设置在暂存台上，用于暂存所述硅片。

3.根据权利要求2所述的一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于：所述暂存位上还设有吸盘位、第一喷水孔和第一硅片感应器，所述吸盘位设置在所述暂存位上，用于存放机械臂吸盘；所述第一喷水孔设置在所述暂存位上，用于润湿所述暂存位；所述第一硅片感应器设置在所述暂存位上，用于检测所述硅片是否处于所述暂存位上。

4.根据权利要求3所述的一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于：所述暂存位个数至少为一个；所述第一硅片感应器个数与所述暂存位个数一致。

5.根据权利要求2所述的一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于：所述暂存装置还包括第一驱动机构和第二驱动机构，所述第一驱动机构设置在所述暂存台底部，用于控制所述暂存台旋转；所述第二驱动机构设置在所述暂存台底部，用于带动所述暂存位倾斜。

6.根据权利要求1-5任一所述的一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于：所述滑轨装置包括滑轨和第二喷水孔，所述滑轨设置在所述暂存装置一端，用于支撑所述硅片滑动；所述第二喷水孔设置在所述滑轨上，用于润湿所述滑轨。

7.根据权利要求1-5任一所述的一种双面抛光机湿式硅片储存器，其特征在于：所述硅片收集控制装置包括硅片收集器和第二硅片感应器，所述第二硅片感应器设置在所述滑轨装置一端，用于控制所述硅片收集器；所述硅片收集器设置在所述滑轨装置旁，用于控制卡匣移动来收集硅片。