[实用新型]用于PECVD设备的配套供应系统有效

专利信息
申请号: 202022452258.9 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN213570729U 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 左国军;梁建军;柳昆鹏 申请(专利权)人: 常州捷佳创精密机械有限公司
主分类号: C23C16/50 分类号: C23C16/50;F25D17/02;H01L31/18
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 尚志峰;王淑梅
地址: 213133 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 pecvd 设备 配套 供应 系统
【权利要求书】:

1.一种用于PECVD设备的配套供应系统,所述PECVD设备包括腔体(102)和设置在所述腔体(102)上的设备组件(104),其特征在于,所述用于PECVD设备的配套供应系统包括循环水管路系统(10),所述循环水管路系统(10)包括:

进水管路装置(12),所述进水管路装置(12)与所述腔体(102)和/或所述设备组件(104)连通;

出水管路装置(14),所述出水管路装置(14)与所述腔体(102)和/或所述设备组件(104)连通;

其中,所述进水管路装置(12)能够将冷却水输入所述腔体(102)和/或所述设备组件(104)以实现对所述PECVD设备的冷却降温功能。

2.根据权利要求1所述的用于PECVD设备的配套供应系统,其特征在于,所述腔体(102)包括工艺腔(1022)和与所述工艺腔(1022)连通的输送腔(1024),所述设备组件(104)包括真空泵(1042)和工艺腔处理设备(1044),所述真空泵(1042)设置在所述工艺腔(1022)和所述工艺腔(1022)上,所述真空泵(1042)通过连通管路与所述工艺腔(1022)和所述工艺腔(1022)连通,所述工艺腔处理设备(1044)设置在所述工艺腔(1022)上,所述进水管路装置(12)和出水管路装置(14)均与所述输送腔(1024)和/或所述工艺腔处理设备(1044)和/或所述真空泵(1042)连通。

3.根据权利要求2所述的用于PECVD设备的配套供应系统,其特征在于,所述进水管路装置(12)包括:

主进水管路(122);

第一支进水管路(124),所述第一支进水管路(124)的一端与所述主进水管路(122)连通,所述第一支进水管路(124)的另一端与所述输送腔(1024)连通;

第二支进水管路(126),所述第二支进水管路(126)的一端与所述主进水管路(122)连通,所述第二支进水管路(126)的另一端与所述工艺腔处理设备(1044)连通;

第三支进水管路(128),所述第三支进水管路(128)的一端与所述主进水管路(122)连通,所述第三支进水管路(128)的另一端与所述真空泵(1042)连通。

4.根据权利要求2所述的用于PECVD设备的配套供应系统,其特征在于,所述出水管路装置(14)包括:

主出水管路(142);

第一支出水管路(144),所述第一支出水管路(144)的一端与所述主出水管路(142)连通,所述第一支出水管路(144)的另一端与所述输送腔(1024)连通;

第二支出水管路(146),所述第二支出水管路(146)的一端与所述主出水管路(142)连通,所述第二支出水管路(146)的另一端与所述工艺腔处理设备(1044)连通;

第三支出水管路(148),所述第三支出水管路(148)的一端与所述主出水管路(142)连通,所述第三支出水管路(148)的另一端与所述真空泵(1042)连通。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的用于PECVD设备的配套供应系统,其特征在于,所述PECVD设备还包括控制阀组件,所述用于PECVD设备的配套供应系统还包括充气管路系统(20),所述充气管路系统(20)包括第一充气管路装置(22)和第二充气管路装置(24),所述第一充气管路装置(22)用于为所述控制阀组件提供驱动气源,所述第二充气管路装置(24)用于将氮气输入到所述设备组件(104)的真空泵(1042)和所述腔体(102)内。

6.根据权利要求5所述的用于PECVD设备的配套供应系统,其特征在于,所述第一充气管路装置(22)包括:

第一充气管路(222);

压缩空气分气块(224),所述压缩空气分气块(224)与所述第一充气管路(222)的输出端连接;

压缩空气进气球阀(226),所述压缩空气进气球阀(226)设置在所述第一充气管路(222)上;

过滤调压阀(227),所述过滤调压阀(227)设置在所述第一充气管路(222)上,且位于所述压缩空气分气块(224)和所述压缩空气进气球阀(226)之间。

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