[实用新型]一种轮胎自清洗装置

权利要求书

1.一种轮胎自清洗装置，其特征在于包括以下部件：

清洗输送架(21)，固定于机架内并用于沿生产线方向输送轮胎，清洗输送架(21)由清洗升降组件(21a)驱动从而产生铅垂向的升降动作；

清洗回转架(22)，固定于机架内并可产生相对清扫组件(23)的回转动作；清洗输送架(21)的支撑面高于或等于清洗回转架(22)的回转面，且清洗输送架(21)上存有可供清洗回转架(22)上下穿行的避让口(24)，从而在清洗输送架(21)下降时能将轮胎由支撑面过渡至回转面上；

清扫组件(23)，用于沿轮胎轴向伸入轮胎内圈区域处，从而实现对轮胎内壁的机械刮扫或激光清扫功能。

2.根据权利要求1所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述清洗回转架(22)包括外形呈“十”字状的回转托架(22b)，回转托架(22b)上各托撑臂均为沿轮胎径向延伸形成；以在轮胎输送方向的两侧的两组长度方向一致的托撑臂为侧部托撑臂(22c)，两组侧部托撑臂(22c)上均布置有可沿托撑臂长度方向作往复动作的清洗夹持组件；所述清洗夹持组件包括至少两组且轴线铅垂布置的夹持辊(22d)以及用于固定两组夹持辊(22d)的夹持架(22a)，所述夹持架(22a)通过径向驱动组件(22e)驱动而产生所述往复动作。

3.根据权利要求2所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述径向驱动组件(22e)包括径向驱动电机以及由径向驱动电机驱动而产生相应动作的同步带，所述同步带上固定滑块，滑块与所述夹持架(22a)间构成固定配合。

4.根据权利要求2所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：各侧部托撑臂(22c)的两侧均布置径向导轨(22f)，所述夹持架(22a)架设在径向导轨(22f)上并可沿径向导轨(22f)的导向方向产生所述往复动作。

5.根据权利要求2所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述托撑臂上布置回转辊(22g)，回转辊(22g)轴线与该回转辊(22g)所在的托撑臂的长度方向一致；各回转辊(22g)辊面共同配合形成用于托撑轮胎的所述回转面。

6.根据权利要求2所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述回转托架(22b)通过回转台(22h)轴承配合于机架上，回转台(22h)轴线与轮胎轴线同轴，回转台(22h)通过回转电机(22i)驱动从而带动回转托架(22b)产生绕轮胎轴线的回转动作。

7.根据权利要求2或3或4或5或6所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述清洗输送架(21)为输送辊组，所述清洗升降组件(21a)为清洗升降气缸；清洗升降组件(21a)的活塞缸端固定在机架底部，且活塞杆端铅垂向上延伸并与清洗输送架(21)的架体间构成固接配合，从而托撑清洗输送架(21)产生铅垂向的升降动作。

8.根据权利要求7所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述清洗输送架(21)包括固定于同一架体上的四组输送方向一致的子输送辊组(21b)，四组子输送辊组(21b)在水平方向呈平面阵列状的2×2式布局，从而使得四组子输送辊组(21b)之间形成“十”字状的可供清洗回转架(22)穿过的所述避让口(24)；四组子输送辊组(21b)的输送方向的正前方还布置有主动力辊(21c)，主动力辊(21c)通过主动力电机驱动并同时带动各个子输送辊组(21b)产生输送动作。

9.根据权利要求2或3或4或5或6所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述清扫组件(23)包括机械清扫头或激光清扫头(23a)，所述机械清扫头或激光清扫头(23a)通过带有铅垂电机(23b)的铅垂丝杆滑块机构(23c)驱动而产生沿轮胎轴向的往复升降动作。

10.根据权利要求9所述的一种轮胎自清洗装置，其特征在于：所述清扫组件(23)还包括带有水平电机(23d)的水平丝杆滑块机构(23e)，从而驱动水平丝杆滑块机构(23e)产生沿轮胎输送方向的往复直线动作，所述水平丝杆滑块机构(23e)与铅垂丝杆滑块机构(23c)共同组成可使得机械清扫头或激光清扫头(23a)在铅垂面任一点停留的平面XY轴联动组件。