[实用新型]内设掩膜层的感光干膜

说明书

本实用新型涉及一种内设掩膜层的感光干膜，它包括保护膜、感光层和掩膜层；所述保护膜覆盖于感光层的一侧表面，所述掩膜层覆盖于感光层的另一侧表面，掩膜层表面印制有特定的掩膜图案，掩膜图案采用遮光颜料印制，图案区域遮挡UV及可见光，非图案区域可透过UV及可见光。本实用新型的目的在于提供一种内设掩膜层的感光干膜，其将柔性掩膜集成于感光干膜内，实现曝光设备简化，提高生产节拍，优化了精细图案的图案转移效果。本实用新型的优点在于：本实用新型将柔性掩膜版集成于感光干膜中，替代光学承载膜层，曝光时无需曝光掩膜，曝光机无需设置真空吸附系统，使曝光机更加简洁，减少了曝光工艺的节拍，增加曝光设备的产能。

技术领域

本实用新型涉及利用感光材料进行图案转移工艺的领域，特别是一种内设掩膜层的感光干膜。

背景技术

感光干膜是一种主要由感光树脂和保护膜材制作成的干膜材料，在印刷电路板、太阳能电池、引线框架、导体封装等领域被广泛的用作图案转移的关键材料。

感光干膜一般由光学承载膜层、感光材料层和保护膜层构成。光学承载膜层和保护膜层贴敷于感光材料层两面。用感光干膜进行图案转移，一般需经以下步骤：一、先将保护膜层剥离，经过热压的方式，将感光材料层和光学承载膜层贴敷于要制作图案的基板上；二、再将基板置于曝光机中，通过曝光将掩膜图案转移至感光材料层中；三、而后剥离光学承载膜层，经显影等工序，选择性去除未图案外区域的感光材料层得到需要的图案。

用感光干膜进行图案转移，与湿膜方法相比，免去了涂感光胶及固化的步骤，操作更加便捷简单，在印刷电路板、太阳能电池引线框架、导体封装等领域广泛应用。但在曝光工艺中，感光材料层与曝光掩膜版之间间隔一层承载膜层，影响曝光垂直度，不利于对小于100um的图案进行精细曝光；此外若采用柔性掩膜版曝光时，还需真空系统吸附，以保证掩膜版与基板的紧密贴合，设备更加复杂，且极大延长生产节拍，降低了设备产能。

在印刷电路板和太阳能电池行业中，通用的掩膜图案相对固定，若能将柔性掩膜与感光干膜结合，制作感光干膜时将掩膜图案集成在感光干膜中，曝光时免除掩膜、免除真空吸附系统，曝光设备更简洁；同时减少曝光工序的生产节拍，极大的提高产能；也利于保持对精细图案曝光的垂直度，保证精细图案曝光的质量。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种内设掩膜层的感光干膜，其将柔性掩膜集成于感光干膜内，实现曝光设备简化，提高生产节拍，优化了精细图案的图案转移效果。

本实用新型的目的通过如下技术方案实现：一种内设掩膜层的感光干膜，它包括保护膜、感光层和掩膜层；所述保护膜覆盖于感光层的一侧表面，所述掩膜层覆盖于感光层的另一侧表面，掩膜层表面印制有特定的掩膜图案，掩膜图案采用遮光颜料印制，图案区域遮挡UV及可见光，非图案区域可透过UV及可见光。

较之现有技术而言，本实用新型的优点在于：

本实用新型将柔性掩膜版集成于感光干膜中，替代光学承载膜层，曝光时无需曝光掩膜，曝光机无需设置真空吸附系统，使曝光机更加简洁，减少了曝光工艺的节拍，增加曝光设备的产能。

且掩膜层紧密贴敷于感光材料表面，可使掩膜图案在曝光时更加垂直，利于小于100um精细图案的精确曝光。

附图说明

图1是本实用新型一种内设掩膜层的感光干膜的结构示意图。

图2是内设掩膜层的感光干膜的曝光过程示意图。

图3是普通感光干膜的曝光过程示意图。

具体实施方式

下面结合说明书附图和实施例对本实用新型内容进行详细说明：

如图1-2所示为本实用新型提供的一种内设掩膜层的感光干膜的实施例示意图。