[实用新型]一种移动弧源电弧离子沉积设备

说明书

本实用新型涉及电弧离子沉积技术领域，尤其是涉及一种移动弧源电弧离子沉积设备。移动弧源电弧离子沉积设备包括真空室、移动平台和弧源；所述移动平台设置在真空室内，所述弧源设置在移动平台上。通过将弧源设置在移动平台上，能够实现弧源的移动，通过一个弧源能够实现工件不同位置的离子沉积，相对于现有多个弧源的方案，减少了弧源的使用，降低了生成成本。

技术领域

本实用新型涉及电弧离子沉积技术领域，尤其是涉及一种移动弧源电弧离子沉积设备。

背景技术

通常的电弧离子沉积设备采用的是固定弧源,在沉积大体积的零部件时用多弧源方案。即在真空室四壁上密排着很多弧源头以达到快速沉积的目的。

这就带来了靶材的极大浪费,并且还存在多个对向弧源相互干扰的问题。使得生产中需要将对向的弧源关闭并用遮挡板挡住。

对于沉积稀贵金属,上述的传统技术方案就显得不能满足降低生产成本, 提高产品质量的要求。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种移动弧源电弧离子沉积设备，该沉积设备能够解决现有技术中存在生产成本高的问题；

本实用新型提供一种移动弧源电弧离子沉积设备，其包括真空室、移动平台和弧源；

所述移动平台设置在真空室内，所述弧源设置在移动平台上。

优选的，所述移动平台能够带动弧源沿真空室的轴向移动。

优选的，所述真空室包括移动平台安装腔和工件放置腔；

所述移动平台安装腔的开口端和工件放置腔的开口端相互密封连接。

优选的，所述移动平台包括电机、减速器、丝杠、螺母和滑块；

所述电机通过减速器带动丝杠转动，丝杠与移动平台安装腔转动连接，丝杠与移动平台安装腔轴向固定；

所述螺母固定在移动平台安装腔内，丝杠与螺母转动连接，滑块与螺母固定连接，且滑块在螺母的带动下沿丝杠的轴向移动。

优选的，所述丝杠与减速器之间设置有磁流体密封装置。

优选的，所述移动平台安装腔内设置有导轨，所述滑块与导轨滑动连接。

优选的，所述弧源与滑块固定连接。

优选的，所述移动平台安装腔上设置有冷却水接口和控制线接口。

优选的，所述工件放置腔内设置有工件旋转装置。

优选的，所述移动平台安装腔和工件放置腔之间设置有密封圈。

有益效果：

通过将弧源设置在移动平台上，能够实现弧源的移动，通过一个弧源能够实现工件不同位置的离子沉积，相对于现有多个弧源的方案，减少了弧源的使用，降低了生成成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型具体实施方式提供的移动弧源电弧离子沉积设备的结构示意图；

图2为本实用新型具体实施方式提供的移动平台与移动平台安装室配合的结构示意图；

图3为图2“A-A向”剖视图；

图4为图2右视图。

附图标记说明：