[实用新型]一种移动弧源电弧离子沉积设备有效

专利信息
申请号: 202022356055.X 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN213680867U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 富之柢;王俊虎;王娜;贾中华 申请(专利权)人: 富之柢
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京八月瓜知识产权代理有限公司 11543 代理人: 白鹤
地址: 100072 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 移动 电弧 离子 沉积 设备
【权利要求书】:

1.一种移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,包括真空室、移动平台和弧源;

所述移动平台设置在真空室内,所述弧源设置在移动平台上。

2.根据权利要求1所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述移动平台能够带动弧源沿真空室的轴向移动。

3.根据权利要求1所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述真空室包括移动平台安装腔和工件放置腔;

所述移动平台安装腔的开口端和工件放置腔的开口端相互密封连接。

4.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述移动平台包括电机、减速器、丝杠、螺母和滑块;

所述电机通过减速器带动丝杠转动,丝杠与移动平台安装腔转动连接,丝杠与移动平台安装腔轴向固定;

所述螺母固定在移动平台安装腔内,丝杠与螺母转动连接,滑块与螺母固定连接,且滑块在螺母的带动下沿丝杠的轴向移动。

5.根据权利要求4所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述丝杠与减速器之间设置有磁流体密封装置。

6.根据权利要求4所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述移动平台安装腔内设置有导轨,所述滑块与导轨滑动连接。

7.根据权利要求4所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述弧源与滑块固定连接。

8.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述移动平台安装腔上设置有冷却水接口和控制线接口。

9.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述工件放置腔内设置有工件旋转装置。

10.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备,其特征在于,所述移动平台安装腔和工件放置腔之间设置有密封圈。

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