[实用新型]一种低涨缩的高分子材料缓冲垫有效
| 申请号： | 202022211011.8 | 申请日： | 2020-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN212910272U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 蔡高明;杨桂林;梁汉声 | 申请（专利权）人： | 深圳市瑞昌星科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/46 | 分类号： | H05K3/46;B32B27/38;B32B27/08;B32B27/32;B32B7/06;B32B17/02;B32B17/10;B32B27/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 低涨缩 高分子材料 缓冲 | ||
1.一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，包括，第一离型膜层、第一环氧树脂层、阻胶层、第二环氧树脂层、第二离型膜层；
其中，所述第一离型膜层设置有中间层；
所述第二离型膜层设置有中间层；
所述中间层为玻纤布；
所述阻胶层由纳米陶瓷粉改性环氧树脂材料制成；
所述第一环氧树脂层的一面附着于所述阻胶层的一面；
所述第一离型膜层附着于所述第一环氧树脂层的另一面；
所述第二环氧树脂层的一面附着于所述阻胶层的另一面；
所述第二离型膜层附着属于所述第二环氧树脂层的另一面。
2.根据权利要求1所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第一离型膜层由PTFE、PFA、ETFE、FEP中的一种材料制成。
3.根据权利要求1或2所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第一离型膜层的厚度为5μm～40μm。
4.根据权利要求1所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第二离型膜层由PTFE、PFA、ETFE、FEP中的一种材料制成。
5.根据权利要求1或4所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第二离型膜层的厚度为5μm～40μm。
6.根据权利要求1所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第一环氧树脂层为双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、缩水甘油醚型环氧树脂、酯化型环氧树脂中的一种材料制成。
7.根据权利要求1或6所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第一环氧树脂层的厚度为20μm～100μm。
8.根据权利要求1所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第二环氧树脂层为双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、缩水甘油醚型环氧树脂、酯化型环氧树脂中的一种材料制成。
9.根据权利要求1或8所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述第二环氧树脂层的厚度为20μm～100μm。
10.根据权利要求1所述的一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其特征在于，所述阻胶层的厚度为50μm～200μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市瑞昌星科技有限公司，未经深圳市瑞昌星科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022211011.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种安全型透析用留置针
- 下一篇：一种耐受型电路板压合缓冲垫
