[实用新型]一种用于环抛精磨机的沉淀池有效
| 申请号: | 202022189776.6 | 申请日: | 2020-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN213765438U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
| 发明(设计)人: | 王科;钟海 | 申请(专利权)人: | 成都强海光电科技有限责任公司 |
| 主分类号: | B24B55/06 | 分类号: | B24B55/06;C02F9/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 环抛精磨机 沉淀 | ||
本实用新型公开了一种用于环抛精磨机的沉淀池,包括底箱,所述底箱的内部固设有竖板,所述竖板的中上部设置有连通筒,所述底箱的顶面设置有电机罩,所述电机罩内安装有电机,所述底箱内设置有U形搅拌杆,所述U形搅拌杆位于竖板的左侧,且所述U形搅拌杆上固设有多个搅拌叶片,所述U形搅拌杆的正下方设置有网格板,所述网格板的正下方设置有推泥板,所述底箱的内底面固设有防水电推缸,所述防水电推缸的延伸端与推泥板固定连接。本实用新型通过电机的设置,当需要对环抛精磨机清洗的后污水进行絮沉时,带动U形搅拌杆及搅拌叶片进行转动,方便了絮凝剂与污水进行充分的混合,从而使得污水絮凝沉淀效果更佳。
技术领域
本实用新型涉及污水处理技术领域,尤其涉及一种用于环抛精磨机的沉淀池。
背景技术
环抛机精磨机是大型平面高精度光学加工设备,环抛机精磨机是依据环形连续抛光法设计的设备,环形连续抛光,是一种复制抛光,修正盘校整沥青胶盘,沥青胶盘再抛光被加工零件。
环抛精磨机在进行完抛光作业时,会有很多粉末杂质产生,并会随着气体的流动而形成粉尘,容易造成污染及浪费,目前常用的回收方法为水洗沉淀法,先对粉尘杂质进行水冲洗,然后在沉淀池中自然蒸发干燥,不仅沉淀效率低,而且不利于水资源的二次利用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于环抛精磨机的沉淀池,以解决上述技术问题。
本实用新型为解决上述技术问题,采用以下技术方案来实现:
一种用于环抛精磨机的沉淀池,包括底箱,所述底箱的内部中央位置固设有竖板,所述竖板的中上部设置有连通筒,所述连通筒贯穿竖板并与竖板固定连接,所述底箱的顶面设置有电机罩,所述电机罩贯穿底箱的顶面并与底箱固定连接,所述电机罩内安装有电机,所述底箱内设置有U形搅拌杆,所述U形搅拌杆位于竖板的左侧,且所述U形搅拌杆上固设有多个搅拌叶片,所述U形搅拌杆的正下方设置有网格板,所述网格板与底箱的内侧面、竖板的左侧面固定连接,所述网格板的正下方设置有推泥板,所述底箱的内底面固设有防水电推缸,所述防水电推缸贯穿竖板的底面中央位置并与竖板固定连接,所述防水电推缸的延伸端与推泥板固定连接。
优选的,所述底箱的顶面设置有絮凝剂进药筒,所述絮凝剂进药筒贯穿底箱的顶面并与底箱固定连接,且所述絮凝剂进药筒位于电机罩的左侧。
优选的,所述底箱内顶面与内底面上均匀交错设置有多个折板座,多个所述折板座均位于竖板的右侧,且每个所述折板座的一端均固设有过滤折板。
优选的,所述底箱的左侧板上设置有进污筒,所述进污筒贯穿底箱的左侧板并与底箱固定连接,所述进污筒的左端固设有进污管,所述进污管与进污筒贯通连接。
优选的,所述底箱的左侧板上设置有排污筒,所述排污筒贯穿底箱的左侧板并与底箱固定连接,所述排污筒上设置有排污阀,且所述排污筒位于进污筒的正下方。
优选的,所述底箱的右侧板上设置有排水筒,所述排水筒贯穿底箱的右侧板并与底箱固定连接,所述排水筒的右端固设有排水管,所述排水管与排水筒贯通连接,所述排水筒的左端设置有L形过滤罩,所述L形过滤罩与底箱的内侧面固定连接。
本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型通过电机的设置,当需要对环抛精磨机清洗的后污水进行絮沉时,带动U形搅拌杆及搅拌叶片进行转动,方便了絮凝剂与污水进行充分的混合,从而使得污水絮凝沉淀效果更佳;
2、本实用新型通过防水电推缸的设置,带动推泥板推动絮凝后的杂质,方便了絮凝沉淀后的污水杂质通过排污筒排出;
3、本实用新型通过多个过滤折板的设置,方便了对初步絮凝沉淀分离后的污水混合物进行再深层次的杂质分离,从而使得沉淀分离效果更佳,分离后的清水通过排水筒回收,可以实现二次利用,从而节约水资源。
附图说明
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