[实用新型]一种用于环抛精磨机的沉淀池有效
申请号: | 202022189776.6 | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN213765438U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 王科;钟海 | 申请(专利权)人: | 成都强海光电科技有限责任公司 |
主分类号: | B24B55/06 | 分类号: | B24B55/06;C02F9/04 |
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地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 环抛精磨机 沉淀 | ||
1.一种用于环抛精磨机的沉淀池,包括底箱(1),其特征在于:所述底箱(1)的内部中央位置固设有竖板(9),所述竖板(9)的中上部设置有连通筒(17),所述连通筒(17)贯穿竖板(9)并与竖板(9)固定连接,所述底箱(1)的顶面设置有电机罩(13),所述电机罩(13)贯穿底箱(1)的顶面并与底箱(1)固定连接,所述电机罩(13)内安装有电机(14),所述底箱(1)内设置有U形搅拌杆(15),所述U形搅拌杆(15)位于竖板(9)的左侧,且所述U形搅拌杆(15)上固设有多个搅拌叶片(16),所述U形搅拌杆(15)的正下方设置有网格板(10),所述网格板(10)与底箱(1)的内侧面、竖板(9)的左侧面固定连接,所述网格板(10)的正下方设置有推泥板(12),所述底箱(1)的内底面固设有防水电推缸(11),所述防水电推缸(11)贯穿竖板(9)的底面中央位置并与竖板(9)固定连接,所述防水电推缸(11)的延伸端与推泥板(12)固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于环抛精磨机的沉淀池,其特征在于:所述底箱(1)的顶面设置有絮凝剂进药筒(8),所述絮凝剂进药筒(8)贯穿底箱(1)的顶面并与底箱(1)固定连接,且所述絮凝剂进药筒(8)位于电机罩(13)的左侧。
3.根据权利要求1所述的一种用于环抛精磨机的沉淀池,其特征在于:所述底箱(1)内顶面与内底面上均匀交错设置有多个折板座(18),多个所述折板座(18)均位于竖板(9)的右侧,且每个所述折板座(18)的一端均固设有过滤折板(19)。
4.根据权利要求1所述的一种用于环抛精磨机的沉淀池,其特征在于:所述底箱(1)的左侧板上设置有进污筒(2),所述进污筒(2)贯穿底箱(1)的左侧板并与底箱(1)固定连接,所述进污筒(2)的左端固设有进污管(3),所述进污管(3)与进污筒(2)贯通连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于环抛精磨机的沉淀池,其特征在于:所述底箱(1)的左侧板上设置有排污筒(4),所述排污筒(4)贯穿底箱(1)的左侧板并与底箱(1)固定连接,所述排污筒(4)上设置有排污阀(5),且所述排污筒(4)位于进污筒(2)的正下方。
6.根据权利要求1所述的一种用于环抛精磨机的沉淀池,其特征在于:所述底箱(1)的右侧板上设置有排水筒(6),所述排水筒(6)贯穿底箱(1)的右侧板并与底箱(1)固定连接,所述排水筒(6)的右端固设有排水管(7),所述排水管(7)与排水筒(6)贯通连接,所述排水筒(6)的左端设置有L形过滤罩(20),所述L形过滤罩(20)与底箱(1)的内侧面固定连接。
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