[实用新型]一种高压离子轰击的真空镀膜机

权利要求书

1.一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）上端设有镀膜机本体（13），镀膜机本体（13）上端设有电机箱（2），电机箱（2）内设有电机（3），所述底座（1）的上端位于镀膜机本体（13）的右端设有保护壳（4），保护壳（4）的内部设有真空泵（5），真空泵（5）的上端设有真空管（6），所述真空泵（5）的下端设有排气管（7），所述底座（1）上端位于镀膜机本体（13）的左端设有加热箱（8），所述加热箱（8）的右端设有若干引导管二（21），所述加热箱（8）的上端设有连接管（10），所述连接管（10）的右端设有若干引导管一（11），所述引导管一（11）和引导管二（21）的内部均设有引流扇（12），所述引导管一（11）和引导管二（21）的内部位于引流扇（12）的右侧均设有单项阀（14），单项阀（14）上均设有阀瓣（15）；

所述镀膜机本体（13）的内部设有镀膜组件（16），镀膜组件（16）的上下两端均设有转动盘（17），所述镀膜组件（16）下端通过转动盘（17）与镀膜机本体（13）连接，所述镀膜组件（16）的左右两端均设有连接杆（18），且连接杆（18）上设有若干夹具（19），所述镀膜机本体（13）内部顶端右侧设有温度控制器（20）。

2.根据权利要求1所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机，其特征在于，所述加热箱（8）内设有若干加热棒（9）。

3.根据权利要求1所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机，其特征在于，所述引导管二（21）均匀的分布在加热箱（8）的右端，且引导管二（21）的右端穿过镀膜机本体（13）的左侧壁。

4.根据权利要求1所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机，其特征在于，所述引导管一（11）均匀的分布在连接管（10）的右端，且引导管一（11）的右端穿过镀膜机本体（13）的左侧壁。

5.根据权利要求1所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机，其特征在于，所述转动盘（17）的上端设有转动杆（22），转动杆（22）与电机（3）的电机轴连接。

6.根据权利要求1所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机，其特征在于，所述温度控制器（20）与镀膜机本体（13）固定连接。