[实用新型]一种多层MEMS结构有效
申请号: | 202022100291.5 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN212982461U | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 吴炫烨;关一民 | 申请(专利权)人: | 上海新微技术研发中心有限公司 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81C1/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 刘星 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多层 mems 结构 | ||
1.一种多层MEMS结构,其特征在于,包括:
衬底;
至少两层光敏干膜,自下而上依次堆叠于所述衬底上,所述光敏干膜中设有空腔,相邻两层所述光敏干膜中的所述空腔连通。
2.根据权利要求1所述的多层MEMS结构,其特征在于:所述光敏干膜的厚度范围是5微米~1000微米。
3.根据权利要求1所述的多层MEMS结构,其特征在于:相邻两层所述光敏干膜中的所述空腔的开口面积不同。
4.根据权利要求1所述的多层MEMS结构,其特征在于:所述衬底表面设有电极层,位于底层的所述光敏干膜中的所述空腔暴露出所述电极层。
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